文件名称:
氧杂质及热处理过程对Ge-Sb-Te薄膜的光学性质和晶体结构的影响
开发工具:
文件大小: 548kb
下载次数: 0
上传时间: 2021-02-11
详细说明：研究了氧掺杂Ge-Sb-Te磁控溅射相变薄膜在400～800 nm区域的光学常数(n,k),发现不同氧成分薄膜的光学性质有较大差别,经过热处理后薄膜的光学性质也发生了较大变化。由热处理前后薄膜的X射线衍射(XRD)发现,经过退火处理后薄膜发生了从非晶态到晶态的相变。由薄膜内应力变化和薄膜的结构变化解释了薄膜光学性质的变化。
(系统自动生成,下载前可以参看下载内容)
下载文件列表
相关说明
- 本站资源为会员上传分享交流与学习,如有侵犯您的权益,请联系我们删除.
- 本站是交换下载平台，提供交流渠道，下载内容来自于网络，除下载问题外，其它问题请自行百度。
- 本站已设置防盗链，请勿用迅雷、QQ旋风等多线程下载软件下载资源，下载后用WinRAR最新版进行解压.
- 如果您发现内容无法下载，请稍后再次尝试；或者到消费记录里找到下载记录反馈给我们.
- 下载后发现下载的内容跟说明不相乎，请到消费记录里找到下载记录反馈给我们，经确认后退回积分.
- 如下载前有疑问，可以通过点击"提供者"的名字，查看对方的联系方式，联系对方咨询.
