为了满足微米量级印刷电路板(PCB)光刻的需求，提出了一种新型PCB 数字光刻投影成像技术。利用ZEMAX 光学设计软件设计并优化了双高斯结构型光刻投影物镜。该物镜具有双远心结构,可以避免数字微反射镜(DMD)偏转产生离焦，分辨率可达13.68 mm，数值孔径NA=0.045，焦深为200 mm，严格控制像面畸变量小于0.03%。采用DMD 多光束倾斜扫描技术，将DMD 旋转一定的角度，利用曝光点的位置与光斑重叠积分能量的多少，形成更小的像素尺寸，提高了网格精度。基于该投影成像技术进行了光刻实验