介绍了运用工作波长为1016μm 的红外干涉仪测试红外光学材料(锗晶体) 的折射率均匀性的方法. 运用传 统的干涉法检验光学材料的折射率均匀性时,由于锗晶体太软,表面不易加工,其表面面形难以满足测试要求. 为 了消除面形偏差对折射率均匀性偏差测试的影响,使用可见光移相式数字平面干涉仪精确测试被测样品的面形偏 差,该干涉仪具有很高的测试精度,其测量不确定度可以达到λ/ 50 ( λ = 01633μm) . 然后在红外干涉图数据处理中将样品的面形偏差扣除,得到样品折射率的偏差分布. 对锗单晶材料

介绍了运用工作波长为10.6 μm的红外干涉仪测试红外光学材料(锗晶体)的折射率均匀性的方法。运用传统的干涉法检验光学材料的折射率均匀性时,由于锗晶体太软,表面不易加工,其表面面形难以满足测试要求。为了消除面形偏差对折射率均匀性偏差测试的影响,使用可见光移相式数字平面干涉仪精确测试被测样品的面形偏差,该干涉仪具有很高的测试精度,其测量不确定度可以达到λ/50(λ=0.633 μm)。然后在红外干涉图数据处理中将样品的面形偏差扣除,得到样品折射率的偏差分布。对锗单晶材料进行了实际测试。