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偏振分光膜中节瘤缺陷的损伤特性研究
偏振分光膜中节瘤缺陷的损伤特性研究,阿卜杜萨拉木·图尼亚孜,程鑫彬,研究了1064nm HfO2/SiO2偏振分光膜中节瘤缺陷的损伤特性。为了研究偏振分光膜中节瘤缺陷种子源粒径大小与损伤阈值之间的关系,在熔石�
所属分类:
其它
发布日期:2019-12-28
文件大小:456704
提供者:
weixin_38501826