点数信息
www.dssz.net
注册会员
|
设为首页
|
加入收藏夹
您好,欢迎光临本网站!
[请登录]
!
[注册会员]
!
首页
移动开发
云计算
大数据
数据库
游戏开发
人工智能
网络技术
区块链
操作系统
模糊查询
热门搜索:
源码
Android
整站
插件
识别
p2p
游戏
算法
更多...
在线客服QQ:632832888
当前位置:
资源下载
搜索资源 - 光学元件的亚表面缺陷研究
下载资源分类
移动开发
开发技术
课程资源
网络技术
操作系统
安全技术
数据库
行业
服务器应用
存储
信息化
考试认证
云计算
大数据
跨平台
音视频
游戏开发
人工智能
区块链
在结果中搜索
所属系统
Windows
Linux
FreeBSD
Unix
Dos
PalmOS
WinCE
SymbianOS
MacOS
Android
开发平台
Visual C
Visual.Net
Borland C
CBuilder
Dephi
gcc
VBA
LISP
IDL
VHDL
Matlab
MathCAD
Flash
Xcode
Android STU
LabVIEW
开发语言
C/C++
Pascal
ASM
Java
PHP
Basic/ASP
Perl
Python
VBScript
JavaScript
SQL
FoxBase
SHELL
E语言
OC/Swift
文件类型
源码
程序
CHM
PDF
PPT
WORD
Excel
Access
HTML
Text
资源分类
搜索资源列表
光学元件的亚表面缺陷研究
主要讲的是光学元件的亚表面缺陷研究,对于学光学的同学们很是有帮助,希望有用。
所属分类:
制造
发布日期:2011-05-22
文件大小:56320
提供者:
xiaofeng02222
光学元件亚表面损伤的激光散射仿真研究
光学元件的亚表面损伤直接影响其使用性能和抗激光损伤阈值等重要指标,而造成这些危害的根本原因是损伤引入的光散射。针对K9玻璃光学元件建立损伤模型,结合时域有限差分(FDTD)算法,模拟研究了会聚入射光被光学元件亚表面缺陷如微裂纹、气泡等调制后的光场分布以及光沿纵深方向扫描时探测器所接收的亚表面损伤引入的散射光强变化。研究结果对探索光学元件亚表面损伤的测量方法有重要的理论指导意义。
所属分类:
其它
发布日期:2021-02-08
文件大小:2097152
提供者:
weixin_38723242
光学元件表面缺陷散射光成像数值模拟研究
对于精密光学元件表面微米亚微米量级的表面缺陷,光在缺陷处会产生强烈的衍射和散射效应,其在像面的分布情况不能简单地使用几何光学进行解释。采用时域有限差分方法(FDTD)建立了光学元件截面为三角形、矩形的表面缺陷的电磁理论模型,模拟仿真得到了缺陷附近区域及像面的散射光分布情况。并使用电子束曝光、反应离子束刻蚀工艺制作了矩形截面的缺陷样本板,对样本缺陷进行了散射成像实验,得到了暗场图像的灰度分布情况,并与理论仿真结果进行了比对。实验中得到的表面缺陷的像面光强分布情况与理论模拟基本吻合,为光学元件的加工
所属分类:
其它
发布日期:2021-02-07
文件大小:3145728
提供者:
weixin_38499732
全内反射显微技术探测亚表面缺陷新方法研究
亚表面缺陷的检测和去除对于提高光学元件的激光损伤阈值至关重要。结合全内反射显微技术和数字图像处理技术获得光学元件亚表面缺陷信息的新方法,利用显微镜系统的有限焦深,对亚表面缺陷沿深度方向扫描,可以获得不同离焦量下的散射图像,通过数字图像处理技术,建立缺陷散射图像清晰度评价值与离焦量的关系,通过清晰度曲线得到亚表面缺陷的深度位置及深度尺寸。模拟全内反射显微平台的成像过程,讨论微调焦过程中全内反射显微成像的特点。缺陷深度位置及深度尺寸的测量精度主要由载物台精密调焦机构的精度以及显微镜的焦深决定,一般可
所属分类:
其它
发布日期:2021-02-05
文件大小:3145728
提供者:
weixin_38687343
光学元件激光诱导损伤分析及实验研究
通过激光损伤实验,系统分析了传统研磨抛光加工工艺中表面杂质、刻蚀时间、亚表层缺陷和划痕宽深比对熔石英元件激光损伤阈值的影响。结果表明:擦洗后熔石英元件的激光损伤阈值为21.6 J/cm2,未经擦洗的元件的激光损伤阈值为11.28 J/cm2,受表层杂质影响激光损伤阈值大幅度降低,而有缺陷位置处的激光损伤阈值明显比无缺陷位置处的低。刻蚀时间的增加会使工件表面粗糙度和缺陷尺寸逐渐增大,导致光学元件激光损伤阈值大幅度下降,因此需要合理选择化学刻蚀时间。亚表层缺陷会对入射光场产生调制作用,造成局部区域反
所属分类:
其它
发布日期:2021-02-04
文件大小:9437184
提供者:
weixin_38590541
荧光成像技术探测熔石英元件亚表面缺陷
提出荧光成像技术用于无损探测熔石英光学元件亚表面缺陷, 利用该方法获得不同加工工艺下熔石英光学元件的亚表面缺陷。结合熔石英光学元件损伤性能研究, 分析了熔石英光学元件亚表面缺陷与其损伤性能的关联关系。结果表明, 熔石英光学元件损伤阈值与荧光缺陷密度呈反比关系, 即亚表面荧光缺陷较少的样品损伤性能较好。这说明利用该技术方法可以有效评价熔石英光学元件的损伤性能。该研究结果对光学元件加工技术具有指导意义。
所属分类:
其它
发布日期:2021-01-26
文件大小:2097152
提供者:
weixin_38506798