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  1. 光学材料的干法刻蚀研究

  2. 摘 要：本文对化学材料二氧化硅的干法刻蚀工艺进行研究，运用反应离子刻蚀设备对二氧化硅进行了刻蚀实验，通过对不同工艺条件下二氧化硅的刻蚀速 率、均匀性等参数对比，最终得出了二氧化硅等同类光学材料最佳的干法刻蚀 工艺条件。

  3. 所属分类：制造

    • 发布日期：2020-12-22
    • 文件大小：51200
    • 提供者：jfkj2021