将光谱插值法应用到差分吸收光谱(DOAS)技术的数据分析反演中，合理地将浓度较高物质的特征光谱变化所引入的误差降低到忽略不计，从而实现DOAS对掩盖在高浓度物质强吸收下的痕量物质包括NO3自由基、乙二醛(CHO)2以及单环芳烃化合物（MAHC）的精确测量。模拟了发射谱线发射强度以及压力展宽程度不断变化的高压氙(Xe)弧灯(简称Xe灯)特征光谱，精确去除了在450 nm附近强度比(CHO)2高两个数量级的Xe灯结构，实现了大气光化学作用指示剂(CHO)2浓度的正确反演；模拟了由在大气含量决定的不断