本文报道了一种新型的单步晶圆级超疏水微米/纳米双尺度（MNDS）聚（二甲基硅氧烷）（PDMS）薄膜的制造。 MNDS PDMS膜可在高温下直接从超低表面能硅衬底复制而无需任何表面活性剂涂层，从而实现了高精度。 提出了一种具有增强钝化步骤的改进的深React离子刻蚀（DRIE）Craft.io，以轻松实现超低表面能MNDS硅基板，并还用作后处理Craft.io以增强MNDS PDMS膜的疏水性。 通过密度泛函理论研究了这种增强的钝化步骤对表面能的化学修饰，这也是通过使用第一性原理计算在分子水平上对