红外制导技术真正的发展得益于红外热成像技术、小型制冷器技术、图像处理 技术、微电子技术等的发展。70 年代中期以后，由于先后出现了碲镉汞，锑化铟， 铂化硅等线列器件和焦平面阵列器件，红外光机扫描和凝视阵列技术，红外成像制导 技术逐渐变成了可行的方案。特别是随着元器件技术和计算技术的飞速发展，在近 30 多年来红外探测器经过了从简单的单元探测器发展到一代的线阵探测器、小面阵 探测器，又发展到二代的焦平面阵列探测器，并进一步向三代灵巧焦平面阵列探测器 的发展历程。 红外制导技术目前可划分为三个发展阶
