提出一种利用基于数字微反射镜装置(DMD)的数字光刻系统制作掩模版的方法。通过制图软件制作出二元光栅、菲涅耳波带片等衍射光学元件的掩模图，将这些图形导入数字光刻机，利用DMD系统的空间光调制特性，经精缩投影曝光，在覆胶铬板上刻蚀出相应的图案，经过腐蚀及去胶得到需要的掩模版。将制作好的掩模版用于精缩光学系统，可在晶圆片上得到亚微米结构的图案，达到高分辨率的要求。该方法是将传统的光刻工艺与DMD数字化虚拟掩模的特点相结合，相对于激光束直写法和粒子束刻蚀法，可以更方便、高效、低成本地获得掩模版。