发展趋势与前沿技术 测量技术与仪器涉及所有物理量的测量，对于材料、工程科学、能源科学关系密切。目前的发展趋势有以下几点： (1)以自然基准溯源和传递，同时在不同量程实现国际比对。如果自己没有能力比对就要依靠其它国家。 (2)高精度。目前半导体工艺的典型线宽为0.25μm，并正向0.18μm过渡，2009年的预测线宽是0.07μm。如果定位要求占线宽的1/3，那么就要求10nm量级的精度，而且晶片尺寸还在增大，达到300mm。这就意味着测量定位系统的精度要优于3×10的-8次方，相应的激光稳频精度

半导体激光已20年了。回顾20年来半导体激光的发展历程,展望未来,是很有意义的。

凡是用光学原理和光学测试手段进行光学量或非光学量的信号与图像的探测与处理，均属光学测试技术的范畴。在当今科学技术高速发展的时代，卫星上天和飞船登月、半导体芯片等精密制造业以及激光制导和光电对抗武器等，都离不开光学测试技术做支撑。本文简要介绍近二三十年光学测试技术的发展概况，具体包括光学测试的发展历史与现状、光学测试理论与技术手段的继承与创新、现代光学测试的特征与发展趋势等。