半导体制程培训CMP和蚀刻讲解了半导体制造工艺流程——刻蚀。化学机械平坦化 （Chemical-Mechanical Planarization, CMP），又称化学机械研磨（Chemical-Mechanical Polishing），是半导体器件制造工艺中的一种技术，使用化学腐蚀及机械力对加工过程中的硅晶圆或其它衬底材料进行平坦化处理。

半导体蚀刻技术学习资料，新手了解半导体蚀刻工艺、材料、制程的ppt学习资料，值得推荐的好文档，介绍蚀刻、光刻原理等。