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搜索资源列表

  1. 仓库材料进出管理软件

  2. 仓库材料进出管理软件使用说明 1、本软件必须有一个用户。系统初始有一个默认用户，其用户名为： admin，密码为：admin。使用者可以在系统中添加和删除用户或修改用户密码， 但必须保证系统至少有一个用户，否则无法登录。 2、在首次使用本系统时，为方便用户和便于管理，应先对每一种新材料在 “材料管理->材料信息”窗口里进行登记，未登记的材料在以后的进出 库操作中不能保持和维护。 3、在第一次使用本系统时，如果仓库中有库存 ，必须把这些库存的材料作 为进库材料以进库单的 方式进行登记，否则

  3. 所属分类：专业指导

    • 发布日期：2003-08-09
    • 文件大小：147456
    • 提供者：chenxh

  1. kis2010 key

  2. kis2010的授权文件，可以升级。使用期限180天。

  3. 所属分类：专业指导

    • 发布日期：2009-08-12
    • 文件大小：3072
    • 提供者：jghtsg

  1. 中小企业管理系统

  2. 我们的软件团队研发的中小企业管理系统,一般所说的进销存管理系统,但是本系统涵盖一部分财务功能,基本能满足中小企业的需要。软件安装以后可以直接使用。有半年的使用期限,放在这里希望有一个宣传作用,也可作为学习交流之用。

  3. 所属分类：管理软件

    • 发布日期：2014-03-10
    • 文件大小：12582912
    • 提供者：yan753124

  1. 问卷星调查平台账号密码.txt

  2. 文档是问卷星调查平台的账号，密码，还有半年的期限，本人把账号，密码奉献出来，希望能帮到大家，可以发布一些调查问卷

  3. 所属分类：互联网

    • 发布日期：2019-06-01
    • 文件大小：65
    • 提供者：qq_34789335

  1. Discuz!NT 3.6 bulid 源码包.rar

  2. 软件介绍 Discuz!NT 从诞生至今，每一个版本都有创新，备受应用微软 ASP.NET 平台的站长关注。面对网络社区开放发展的新趋势，产品开发团队历时半年，经过不懈努力，推出最新的 Discuz!NT 2.6，精心打造出了一款更加成熟、安全、稳定的开放式社区平台解决方案。 删除7天帖时间期限失效 编辑置顶贴后置顶失效 页面 XSS 的安全问题（重要更新） 报错提示日期转换失败 64位应用程序池下无法打开所有页面 分割主题提示js错误并不自动跳转 热点聚合中的隐藏内容被显示 发帖后表情不解析

  3. 所属分类：其它

    • 发布日期：2019-07-09
    • 文件大小：16777216
    • 提供者：weixin_39840387

  1. 数飞网络投票评选系统2012版.rar

  2. 数飞网络在线投票系统是真正意义上的网络投票系统，本系统是数飞尔团队资深项目开发成员的呕心力作，它集合开发**台和数据库为一体，用户下载后启动即可使用，不需要任何进行任何的配置和设置。它从单位实际的使用需求出发，得到了使用单位的绝对认可，为了让更多单位体会到这样优秀的网络评选系统，现数飞尔团队对外开放免费下载测试，试用期限为半年。 本投票软件程序含投票网站前台和投票网站后台系统两大块。用户可自定义投票项目、可上传候选人材料、图片等，支持对投票结果统计计算、投票统计图表展示，支持投票数据导出到EX

  3. 所属分类：其它

    • 发布日期：2019-08-29
    • 文件大小：63963136
    • 提供者：weixin_38744375

  1. 2018年下半年网络工程师考试下午真题

  2. 后续把答案发上来 2018年下半年网络工程师考试下午真题【问题】分,每空分 如果配置静态路由实现网络互通,补充在 和 上配置的命令片段。 默认优先级 默认优先级 ●阅读下列说明,回答问题至问题将解答填入答题纸的对应栏内。 【说明】 图为公司和公司总部的部分网络拓扑公司员工办公区域分配的段为 业务服务器地址为 备份服务器地址为 公司总部备份服 务器地址为 互联网 公司总部 A公司 防火墙 防火墙 上网行为 管理 交换机 员工办公 入侵检测 交换机 区域 备份 业务 备份 服务器 服务器 服务器

  3. 所属分类：软考等考

    • 发布日期：2019-04-06
    • 文件大小：902144
    • 提供者：wfz_1999

  1. 半导体制造-光刻-微影(Photo-Lithography)

  2. 1、正负光阻 微影光蚀刻术起源于照相制版的技术。自1970年起，才大量使用于半导体制程之图形转写复制。原理即利用对紫外线敏感之聚合物，或所谓光阻（photo-resist）之受曝照与否，来定义该光阻在显影液（developer）中是否被蚀除，而最终留下与遮掩罩幕，即光罩（mask）相同或明暗互补之图形；相同者称之「正光阻」(positive resist)，明暗互补者称之「负光阻」(negative resist)，如图2-6所示。一般而言，正光阻，如AZ-1350、AZ-5214、FD-640

  3. 所属分类：其它

    • 发布日期：2020-12-09
    • 文件大小：94208
    • 提供者：weixin_38744207