基于光取向液晶的光场调控技术，邹朋飞，魏冰妍，利用基于数控微镜阵芯片（Digital micro-mirror device, DMD）的微投影光刻系统可以实现任意设定的图形制定和偏振控制，进而实现液晶的图形�

由于特种光束的独特性质和丰富应用，光场调控技术近年来得到了越来越广泛的关注。设计特定结构调控普通高斯光束的振幅、相位或偏振方向，可以得到一系列特殊光场。利用一种偏振敏感的光取向材料，基于动态缩微投影曝光系统的液晶光控取向技术，可实现精确、任意和可重构的液晶方位角的取向控制。基于该项技术制备了二值或渐变的液晶微结构元件，对入射光场的各个参量维度进行调控，产生了高品质、高效率的涡旋光束、矢量光束和艾里光束。利用该项技术制备的器件具有成本低廉、轻便集成、电光可调、偏振可控和宽波段适用等特点。综述了本课

随着激光加工技术和液晶取向工艺的发展，一种新型的基于飞秒激光直写的液晶面外区域定向技术问世。基于飞秒多光子光聚合激光直写技术制备出由聚合物条带构成的微结构，将其制成液晶盒，并充入不同种类的液晶，即可实现电光开关、磁光开关、光场调控等功能。每条聚合物条带的侧壁上都分布有表面浮雕光栅结构，使得液晶在聚合物条带通道内的定向成为可能。该技术不仅使不同区域内的液晶实现了物理隔离，还可以使液晶和聚合物实现完全的相分离。该技术快捷简单，在可调谐衍射光栅的实现、特殊光场的产生、光子晶体中的光场调控等方面具有重要