针对集成光栅－反射镜位移测试中工艺及装配误差导致反射镜与光栅不能平行的问题，本文设计了一种可自主调节的反射镜。与传统的工艺精度控制不同，方案重点对可调节反射镜结构进行设计，反射镜的偏转采用电容板来调节．建立了单层光栅与反射镜测量位移的理论模型，分析了两者不平行导致的测量误差，通过 Ansys软件进行静力学分析，施加0~50V电压，仿真得到静电力作用下反射镜偏转最大位移为7μm，提取的最大应力35MPa．仿真结果表明所设计的反射镜可调节范围大于不平行误差，从理论上验证了反射镜调节的可行性．

针对数字微反射镜装置(DMD)无掩模光刻系统，提出并研究了一种数字光栅无掩模光刻对准方法，将硅片的微位移放大显示在数字光栅与硅片物理光栅叠加产生的叠栅条纹中。建立了基于DMD的数字光栅无掩模光刻对准模型，设计了对准标记以及具体的实现方案，并对模型进行了数值仿真和初步的实验验证。结果表明，采用频率可变、图像干净、具有良好周期性结构的数字光栅代替传统的真实掩模光栅，真正实现了零掩模成本；并且采用变频率数字光栅可以扩大测量范围，减小位移测量误差。最终可以实现深亚微米的对准精度，满足目前无掩模光刻对准精