提出了基于空间光调制器的灰度掩模制作新方法.分析了该方法的基本原理,构造了相应的实验系统.同时制作了闪耀光栅、菲涅耳透镜以及Dammann光栅等二元光学器件的灰度掩模.该方法采用逐个图形曝光的方式使其具有内在的并行特性,可大大提高灰度掩模的制作速度和精度,并降低生产成本.