结合光学表面无损检测工艺实际情况，给出基片与镶嵌及掩埋的球体/回转椭球体缺陷粒子的散射特性分析。针对基片与缺陷粒子的半空间问题，结合时域有限差分方法使用广义完全匹配吸收层（GPML），结合三波技术引入激励源，给出了相应的连接边界条件，并将互易性定理应用到近远场外推中，使过程简化。数值计算给出了镶嵌及掩埋的球体/回转椭球体缺陷粒子的散射场的角分布。结果显示：镶嵌比掩埋的缺陷粒子受粒子尺寸的影响更明显。在大散射角下，缺陷粒子的位置因素带来的贡献较大。粒子分别掩埋或镶嵌于基片时，在-10°、30°、7