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安森美推出获ONC18 180纳米工艺技术认证的电路模块
导读:推动高能效创新的安森美半导体(ON Semiconductor)宣布推出专有ONC18 180纳米(nm)工艺技术上的经过认证的新的知识产权(IP)。 经过认证的这些新款电路模块将帮助安森美半导体的晶圆代工厂(GDS2)接口客户把需要硅片重制(re-spin)的风险降至最低,因而帮助降低新设计的开发成本及缩短上市周期。 安森美半导体军事/航空、数字、定制晶圆代工、集成无源器件(IPD)及图像传感器产品分部副总裁Vince Hopkin说:“把我们领先的半导体工艺上的混合信号IP
所属分类:
其它
发布日期:2020-10-20
文件大小:55296
提供者:
weixin_38665449
安森美半导体的开发成本及缩短上市周期
导读:2014年5月7日 - 推动高能效创新的安森美半导体(ON Semiconductor,美国纳斯达克上市代号:ONNN 宣布推出专有ONC18 180纳米(nm)工艺技术上的经过认证的新的知识产权(IP) .这些新的经过认证的电路模块将帮助安森美半导体的晶圆代工厂(GDS2)接口客户把需要硅片重制(re-spin)的风险降至最低,因而帮助降低新设计的开发成本及缩短上市周期。 安森美半导体的定制晶圆代工业务部持续提供新的IP模块;这些IP模块通过Micro Oscillator Inc
所属分类:
其它
发布日期:2020-10-20
文件大小:65536
提供者:
weixin_38534352
安森美半导体的开发成本及缩短上市周期
导读:2014年5月7日 - 推动高能效创新的安森美半导体(ON Semiconductor,美国纳斯达克上市代号:ONNN 宣布推出专有ONC18 180纳米(nm)工艺技术上的经过的新的知识产权(IP) .这些新的经过的电路模块将帮助安森美半导体的晶圆代工厂(GDS2)接口客户把需要硅片重制(re-spin)的风险降至,因而帮助降低新设计的开发成本及缩短上市周期。 安森美半导体的定制晶圆代工业务部持续提供新的IP模块;这些IP模块通过Micro Oscillator Inc.、Sens
所属分类:
其它
发布日期:2021-01-20
文件大小:64512
提供者:
weixin_38748580
安森美推出获ONC18 180纳米工艺技术的电路模块
导读:推动高能效创新的安森美半导体(ON Semiconductor)宣布推出专有ONC18 180纳米(nm)工艺技术上的经过的新的知识产权(IP)。 经过的这些新款电路模块将帮助安森美半导体的晶圆代工厂(GDS2)接口客户把需要硅片重制(re-spin)的风险降至,因而帮助降低新设计的开发成本及缩短上市周期。 安森美半导体军事/航空、数字、定制晶圆代工、集成无源器件(IPD)及图像传感器产品分部副总裁Vince Hopkin说:“把我们的半导体工艺上的混合信号IP通过,是我们策略
所属分类:
其它
发布日期:2021-01-20
文件大小:54272
提供者:
weixin_38503483