在本文中，我们展示了一种嵌入HfO2高k电介质中的Au-Al2O3核壳纳米晶体（NC）的电荷陷阱存储器。 透射电子显微镜图像清楚地显示了在HfO2基质中被Al2O3壳包围的Au NCs。 电气测量显示出相当大的存储窗口（在+/- 8V时为3.6V），较低的编程/擦除操作电压以及良好的耐久性。 特别是，与没有外壳的NC结构相比，在室温和高温下数据保留都得到了改善。 给出了能带模型以改善保留特性。 这种Au-Al2O3核壳NCs存储设备在未来的高性能非易失性存储应用中具有强大的潜力。