在不同的实验环境条件下，对电子束蒸发制备的ZrO2/SiO2多层膜进行了高低温交变实验。扫描电子显微镜(SEM)和X射线衍射(XRD)的测试结果显示高低温交变前后薄膜内部均无晶体形成，膜层结构也无变化。测试高低温交变前后样片的透射率光谱、面形、激光损伤阈值，并对其进行分析。结果表明，在经历高低温交变实验之后，薄膜元件中心波长处的透射率下降，损伤阈值降低，面形向凹陷方向发展。