根据扫描干涉场曝光的特点，针对光刻胶层内曝光量的驻波效应，建立了动态曝光模型。基于快速推进法建立了显影模型，得到了光栅掩模槽形的演变规律。为减弱驻波效应的影响，提出了一种抗反射层最优厚度的设计方法。仿真结果表明，建立的曝光和显影模型能有效预测光栅掩模的槽形轮廓，同时可优化抗反射膜的厚度。