监测接触电阻率（rho（c））的变化，以评估由掺杂物偏析（DS）引起的肖特基势垒高度（SBH）变化。该方法对于小SBH的金属-半导体触点特别有利，因为它既不需要肖特基二极管的电流-电压表征中所需的低温测量，也不受反向电容泄漏电流的影响，而反向泄漏电流通常会困扰电容-电压表征。 PtSi接触n型和p型扩散区，并使用相反或相似的掺杂剂注入预先形成的PtSi膜中，然后在不同温度下进行压入退火，以在PtSi / Si界面上诱导DS，形成PtSi / Si界面。界面偶极被确认为有效SBHs修饰从而rho（