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  1. 掺Yb相移光纤光栅形成过程的分析

  2. 研究了用二次曝光法制作掺Yb相移光纤光栅的实验过程，并对相移光纤光栅制作过程中出现次峰的情况进行了理论分析。合理地解释了该现象。

  3. 所属分类：其它

    • 发布日期：2021-02-12
    • 文件大小：614400
    • 提供者：weixin_38703626