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搜索资源 - 显示/光电技术中的半导体材料的吸收损耗
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显示/光电技术中的量子效率和响应度
量子效率可以分为内量子效率ηi和外量子效率ηo ,它是半导体光电探测器最重要的指标。内量子效率定义为吸收一个入射光子能够产生的电子-空穴对个数,即 由于ηi与材料的吸收系数α,以及吸收层的厚度W相关,因而可表示为[10] 式中,a(λ)是对应波长λ的吸收系数。由上式可见材料的吸收系数越大,或者吸收层越厚,光电探测器的量子效率就越高。在实际的光电探测器申,光不可能直接由材料表面达到吸收区,而是要经过一定的厚度的重掺杂接触区,在这个区域内会造成一部分光子损耗,同时在光电探测器表面
所属分类:
其它
发布日期:2020-11-14
文件大小:97280
提供者:
weixin_38750999
显示/光电技术中的半导体材料的吸收损耗
半导体材料的吸收主要来源于带边吸收、带间吸收和自由载流子吸收。当光子能量大于禁带宽度时,价带中的电子就会被激发到导带。所以传输光的波长要大于光波导材料吸收边的波长,即导波的波长要大于1.1 gm。自由载流子吸收在半导体材料中很明显。自由载流子将会同时影响折射率的实部和虚部,用Drude方程描述吸收系数随载流子浓度的变化为 式中,e是电子电荷;c是真空中的光速;uc是电子迁移率;uh是空穴迁移率;mce是电子的有效质量;mch助是空穴的有效质量;Ne是自由电子的浓度;凡Nc自由空穴的浓度
所属分类:
其它
发布日期:2020-11-13
文件大小:37888
提供者:
weixin_38672807
显示/光电技术中的SEED智能像素器件的物理基础
随着分子束外延(MBE)和金属有机物化学气相淀积(MOCVD)技术的成熟与发展,可以在半导体衬底上均匀生 长原子量级的超薄层田,通过两种半导体材料的交替生长,形成一系列周期性的势垒和势阱,这就是所谓的超晶 格量子阱结构卩引。在量子阱中,由于电子的平均自由程大于势阱的宽度,将产生量子尺寸效应,态密度由体材 料的连续抛物线形变成量子阱中的台阶形,台阶形态密度分布使注入量子阱中电子、空穴能量分布更为集中,大 大提高了注入载流子的利用效率,由于量子阱材料吸收带边比体材料要陡直得多,因而吸收损耗系数至少降
所属分类:
其它
发布日期:2020-11-13
文件大小:82944
提供者:
weixin_38625464