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  1. 富士长焦机使用技巧富士长焦机使用技巧

  2. 点测光是从P档开始的手动档才有的测光方式,从AUTO开始的自动档没有。首先转到这些档,按相机最中间的那个功能键,出现调节菜单,然后用上下键调到测光处,再用左右键调到中间只有一个点的测光方式,按功能键(func)确定,然后半按快门键对准需要测光的部位到绿框内,快门保持半按,再按一下左上角那个+/-键,使得曝光锁定,然后松开快门,重新构图,最后就是按动快门。
  3. 所属分类:专业指导

    • 发布日期:2010-05-08
    • 文件大小:52224
    • 提供者:stellak
  1. 584A投影曝光机的光学系统

  2. 584A投影曝光机的光学系统
  3. 所属分类:制造

    • 发布日期:2012-11-03
    • 文件大小:282624
    • 提供者:znkey
  1. 曝光机用定时器

  2. 定时器 曝光机用
  3. 所属分类:C

    • 发布日期:2012-11-23
    • 文件大小:50176
    • 提供者:yhsmdz
  1. 延时曝光控制器

  2. 用于X光机,延时曝光,可自行调节延迟曝光时间,保障操作者人生安全。
  3. 所属分类:硬件开发

    • 发布日期:2015-03-30
    • 文件大小:32768
    • 提供者:qq_26985097
  1. 数码彩扩机的曝光方式

  2. 数码彩扩机的曝光方式.随着RA-4工艺冲印数码照片彩扩机的诞生,终于使数码照片从单一的打印机输出解放出来!数码照片银盐相纸化,无论是照片色彩质量上,还是加工成本与加工速度上都远远优于打印机输出。这无疑给火暴的数码相机市场起到推波助澜的作用。我们有理由可以相信和预测,两年内数码相机与传统相机会形成平分天下的格局。从现在传统彩扩机活量逐年下降就可以说明这个问题(原因是,传统照片被数码照片分流)。但是数码彩扩机的发展又远远滞后于数码相机的发展这也是一个实际问题。在这里我向色影无忌各位泡菜介绍一下,常见
  3. 所属分类:专业指导

    • 发布日期:2013-01-12
    • 文件大小:69632
    • 提供者:guanguohiu1972
  1. 腐蚀机使用全过程.pdf

  2. 腐蚀机使用全过程包括打印PCB图,曝光,显影,蚀刻和过孔等。
  3. 所属分类:其它

    • 发布日期:2011-11-12
    • 文件大小:181248
    • 提供者:xbaimeidaxia
  1. 光刻机行业研究框架10.pdf

  2. 光刻机重中之重,前道设备居首位。光刻机作为前道工艺七大设备之首(光刻机、刻蚀机、 镀膜设备、量测设备、清洗机、离子注入机、其他设备),价值含量极大,在制造设 备投资额中单项占比高达23%,技术要求极高,涉及精密光学、精密运动、高精度环 境控制等多项先进技术。光刻机是人类文明的智慧结晶,被誉为半导体工业皇冠上的 明珠。  冲云破雾,国产替代迎曙光。目前全球前道光刻机被ASML、尼康、佳能完全垄断 ,CR3高达99%。在当前局势下,实现光刻机的国产替代势在必行,具有重大战略意义 。在02专项光刻机
  3. 所属分类:制造

    • 发布日期:2020-07-18
    • 文件大小:8388608
    • 提供者:paullee1987
  1. 放大机计时曝光器电路图

  2. 本文主要讲放大机计时曝光器电路图。
  3. 所属分类:其它

    • 发布日期:2020-08-12
    • 文件大小:230400
    • 提供者:weixin_38576561
  1. 极路由3真机图曝光:极致纤薄/真·3天线

  2. 之前脚本之家曾经报道过极路由3的外观,因为我们拿到了一页电子版说明书,上述外观与此前曝光的真机一角完全吻合。而现在极路由3终于露出真容了!下面我们一起来看看吧
  3. 所属分类:其它

    • 发布日期:2020-10-01
    • 文件大小:40960
    • 提供者:weixin_38663973
  1. 专用芯片技术中的千元机新宠!联发科Helio X12处理器详解

  2. 发布会上没有见到Helio X20的首秀让人不免失望,不过时值年尾,各家厂商都将更新处理器,海思麒麟950已经率先商用了Cortex-A72架构,高通骁龙820和Exynos8890也已经亮相。而联发科除了旗舰级处理器X20之外,中端新品Helio X12日前也被曝光,竞争对手直指高通骁龙620。    据了解,Helio X12(代号MT6795X)将采用台积电28nm HPC+工艺制程,相比于此前的28nm HPC而言降低功耗30%,减少面积10%。架构上,该处理器采用8核64位Cortex
  3. 所属分类:其它

    • 发布日期:2020-10-16
    • 文件大小:151552
    • 提供者:weixin_38698539
  1. 和利时LM系列PLC在晒版机中的应用

  2. 晒版机是制版印刷中不和或缺的设备,起着非常主要的作用。晒版机是一种用于制作印版的设备,原理为接触曝光成像。晒版时利用大气压力或机械压力使原版与感光版紧密贴合,通过特定液体的光化学反应,将原版上的图像精确地晒制在感光版上。晒版机主要由光源装置、曝光室、真空室、电器部分、机座等部分组成。
  3. 所属分类:其它

    • 发布日期:2020-10-20
    • 文件大小:278528
    • 提供者:weixin_38700430
  1. 电子维修中的iPhone 6S真机拆解

  2. 新一代iPhone离我们越来越近,或许是因为外形上与iPhone 6相差不大,所以曝光起来特别随意,现在该机的拆机照片也已经被奉上了。   外媒送出了一组iPhone 6S被拆解的照片,其中几个关键的点还是很有意思的,首先看屏幕,送出谍照的用户强调,iPhone 6S的屏幕面板与iPhone 6不太一样,比如需要特别的连接线传输,如果不出意外,该机是支持Force Touch的。   此外,新一代iPhone的基带使用依然来自高通,型号为也确实为MDM9635M,支持LTE Cat 6技术,
  3. 所属分类:其它

    • 发布日期:2020-10-19
    • 文件大小:233472
    • 提供者:weixin_38570202
  1. 医疗电子中的基于高频逆变技术的X光机研究与设计

  2. X射线检测技术在无损检测技术和医院诊断领域有着重要的应用,因此人们不断研究X射线产生的相关技术,比如如何减小设备的体积,提高高压直流电源的稳定性和可靠性,X射线的品质与其所需的灯丝电流及阳极电压的相互关系等。本文从高频逆变技术的角度出发,介绍了X光机主要部分的设计,以及阳极电流与阳极高压及灯丝加热之间实现控制的方法。其主要特点是合理利用高频变压器的寄生参数来设计谐振变换器。灯丝加热采用高频交流电压信号。   1 系统电路组成   X射线机有阳极高压、阳极电流以及曝光时间三个物理量需要控制。阳
  3. 所属分类:其它

    • 发布日期:2020-11-11
    • 文件大小:279552
    • 提供者:weixin_38723461
  1. 通信与网络中的3G iPhone BOM单曝光

  2. 苹果首席执行官乔布斯6月9日宣布推出市场期盼的新款iPhone。新版iPhone将从7月11日开始在包括美国在内的22个国家上市。据iSuppli公司的初步“虚拟拆机”分析结果,苹果公司的第二代iPhone的初期硬件材料成本(BOM)与制造成本估计为173美元。   在iPhone开始发货之前,iSuppli利用内部分析人员的洞察力进行了一次虚拟拆机分析,对iPhone内容、供应商和成本作出了估计。分析团队由iSuppli公司的在拆机分析、半导体、显示器、手机、消费电子和无线基础设施方面的主要
  3. 所属分类:其它

    • 发布日期:2020-11-18
    • 文件大小:121856
    • 提供者:weixin_38721398
  1. 基础电子中的步进扫描光刻机

  2. 步进扫描光刻系统是一种混合设各,融合了扫描投影光刻机和分步重复光刻机技术,是通过使用缩小透镜扫描一个大曝光场图像到晶片上一部分实现的。这种技术在一定程度上缓解了器件特征尺寸减小而半导体晶圆物理尺寸增加的问题。一束聚焦的狭长光带同时扫过掩模版和晶片。这种光刻机的标准曝光尺寸为26 mm×33 mm。一旦扫描和图形转移过程结束,晶片就会步进到下一个曝光区域重复这个过程。使用步进扫描光刻机的优点为:   (1)增大了曝光场,可以获得较大的芯片尺寸;   (2)可以在投影掩模版上放多个图形,因而一次
  3. 所属分类:其它

    • 发布日期:2020-11-13
    • 文件大小:79872
    • 提供者:weixin_38609089
  1. 基于TMS320C6713的电子束曝光机图形发生器的硬件设计

  2. 摘要:提出了一套功能较为完备的新型扫描电子束曝光机图形发生器的硬件设计方案。方案采用 TMS320C6713芯片作为核心单元,并由USB2.0接口电路、存储器扩展电路、标记检测控制电路、曝光控制电路和束闸控制电路构成。方案具有数据处理能力强、速度快、接口方便等优势,克服了传统图形发生器单纯依靠软件完成、速度慢、精度低、工作不稳定的缺点。 关键词:电子束曝光机;图形发生器;数字信号处理 中图分类号:TN305.7 文献标识码:A 文章编号:1003-353X(2005)03-0054-041 引言
  3. 所属分类:其它

    • 发布日期:2020-12-10
    • 文件大小:105472
    • 提供者:weixin_38654348
  1. 干膜曝光工艺学习资料

  2. 干膜曝光即在紫外光照射下,光引发剂吸收了光能分解成游离基,游离基再引发光聚合单体进行聚合交联反应,反应后形成不溶于稀碱溶液的体型大分子结构。曝光一般在自动双面曝光机内进行,现在曝光机根据光源的冷却方式不同,可分风冷和水冷式两种,影响曝光成像质量的因素除干膜光致抗蚀剂的性能外,光源的选择、曝光时间(曝光量) 的控制、照相底版的质量等都是影响曝光成像质量的重要因素。 一。光源的选择 任何一种干膜都有其自身特有的光谱吸收曲线,而任何一种光源也都有其自身的发射光谱曲线。如果某种干膜的光谱吸收主峰能与某种
  3. 所属分类:其它

    • 发布日期:2020-12-09
    • 文件大小:106496
    • 提供者:weixin_38699551
  1. 电子束曝光机偏转系统及可动物镜分析

  2. 电子束大扫描场偏转系统设计中,像差的确定是一个必须解决的实际问题。以SDS-3电子束曝光机的磁复合偏转系统为基础,以双通道扫描原理进行扫描,分析了像差与电子束主轨迹的关系。给出了可动物镜的条件,并利用这一条件分析电子束最佳轨迹的结构和方法。并使用计算机辅助设计研究电子束曝光机聚焦偏转系统的结构。由该电子束曝光机试验结果表明,复合系统结构简单紧凑,像差小而可以不用动态校正。采用矢量描写电子轨迹,以积分式表示像差。以0.005 rad半张角,5×10-5的高压纹波,50 mm的像距,10 mm×10
  3. 所属分类:其它

    • 发布日期:2021-02-13
    • 文件大小:577536
    • 提供者:weixin_38677234
  1. 大面积高均匀度平行光曝光机用自由曲面复眼透镜设计

  2. 大面积平行光曝光机是印刷线路板(PCB)、显示面板和触摸屏等电子产品重要的制造设备, 由于采用复眼结合反射镜的非轴对称科勒照明光路, 其曝光均匀度只有0.85左右, 难以满足高精度加工制造的需求。针对此问题, 提出了采用自由曲面复眼替代传统的球面复眼, 建立了高均匀度复眼单元的自由曲面面型设计方法。光线追迹仿真实验结果显示, 采用所提方法后曝光均匀度提高到了0.91以上, 满足高精度加工制造所需的高曝光均匀度的要求。所设计的自由曲面复眼的面型连续, 可以通过金刚石车削进行精密加工, 有望在大面积
  3. 所属分类:其它

    • 发布日期:2021-01-27
    • 文件大小:6291456
    • 提供者:weixin_38626179
  1. 一文解析平行光曝光机原理及图形转移技术

  2. 随着电子产品高精度成像的需求,对印制电路板的设计与制造的要求也越来越高。这推动了PCB生产所需的曝光设备的研制。为此研发出平行光曝光设备是制作密集细线路的关键。文章介绍了平行曝光机工作原理及图形转移技术,跟随小编来详细的了解一下吧。  平行光曝光机的特点  这个类型的设备只有一个灯管,曝光台面也是分有上下方两个镜子,使用的是光线折射的原理。当两个面同时进行曝光的时候,上下灯的曝光是分开的。上等先进行曝光,一面镜子将光线反射到台面的上方镜子,然后再折射到曝光台面上。下灯曝光时,光线是直接直射到下方
  3. 所属分类:其它

    • 发布日期:2021-01-19
    • 文件大小:143360
    • 提供者:weixin_38581308
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