光掩膜版一般也称光罩,是微电子制造中光刻工艺所使用的图形母版,由不透明的遮 光薄膜在透明基板上形成掩膜图形,并通过曝光将图形转印到产品基板上,是光刻工艺中 最重要的耗材之一。掩膜版作为模具,通过光刻技术将掩膜版上的电路图案复制到芯片或 液晶面板玻璃上,从而批量化生产集成电路或液晶面板等产品。光掩模版可按照组成与产品进行分类。光掩膜版主要由基板与遮光膜两部分组成,其 中基板可分为透明树脂基板和透明玻璃基板,透明树脂基板易于大型化,但是易变形,相 较而言玻璃基板更为常用,按照玻璃材质可细分为合成石英