极紫外(EUV)光刻物镜设计不仅要在系统优化阶段尽可能减小残余像差，还必须选择像质补偿器合理分配各项公差，从而在保证系统可制造性的前提下实现预期性能。针对一套数值孔径0.33 的极紫外光刻物镜，进行了补偿器的优选和定位精度分析。根据结构参量对系统波像差的灵敏度并结合各结构参量之间的相关性选择了6个像质补偿器，并分析了非补偿器结构参量的公差。在此基础上，提出了基于蒙特卡罗法的补偿器定位精度分析方法。利用蒙特卡罗法模拟实际装调过程，通过分析补偿器定位精度对像质的影响，确定满足统计像质要求的补偿器定位