离轴照明技术(OAI)是极紫外光刻技术中提高光刻分辨率的关键技术之一。为了实现考虑掩模阴影效应情况下离轴照明的优化选择，构造了一种新型实现OAI曝光的成像模型。将照射到掩模上的非相干光等效为一系列具有连续入射方向的等强度平行光，基于阿贝成像原理分别对掩模进行成像，最终在像面进行强度叠加实现OAI方式下空间成像的计算；并通过向投影系统函数添加离焦像差项实现不同离焦面上空间成像计算。该模型极大地简化了OAI条件下对掩模阴影效应的计算，提高了成像质量计算效率。结合光刻胶特性及投影曝光系统焦深设计要求，