对磁控溅射法制备的氧化钒(VOx)薄膜在N2气氛中进行了不同时间的450 ℃退火实验，并研究了其退火前后的形貌、结构、成分和电学特性的变化。电阻温度特性测试表明，退火后薄膜的电阻(R)和电阻温度系数(TCR)都明显增大。从扫描电子显微镜（SEM）和原子力显微镜（AFM）图像可以观察到，薄膜在退火后其晶粒尺寸和粗糙度都大大增加。由X射线衍射（XRD）分析得知薄膜退火前是非晶的，而在退火后出现V2O5(0 0 1)和VO2(0 1 1，1 -1 0)以及V2O3(1 1 3)结晶相。X射线电子谱（X