用脉冲直流磁控溅射方法在硅片衬底上制备了厚度相同的单层钼薄膜，结合台阶仪、X射线衍射仪、场发射扫描电镜、原子力学显微镜和紫外-可见分光光度计分别研究了不同沉积速率对钼薄膜微结构、表面形貌和光学性能的影响。掠入射X射线反射谱拟合的钼薄膜厚度与设计厚度一致，说明当前钼薄膜制备工艺成熟稳定。沉积速率通过改变薄膜生长模式与薄膜形核率影响钼薄膜表面形貌演化。随着沉积速率的增大，薄膜越来越致密，钼(110)面的衍射峰强度逐渐增大，平均晶粒尺寸增大, 表面粗糙度先降低后增加。