介绍了椭圆偏振法、棱镜耦合法和干涉法测量薄膜厚度和折射率的基本原理和仪器组成,并分析了它 们的特点及存在问题,指出选择测量方法和仪器应注意的问题

用高功率的Nd3+:YAG脉冲激光轰击真空室内的石墨靶,形成激光等离子体雾状物质,在硅衬底上沉积形成类金刚石薄膜.用椭圆偏振光谱法测量不同衬底温度下制备的系列样品的厚度和折射率,发现随着衬底温度的升高,薄膜的厚度减小而折射率增大,这种可以控制折射率变化的薄膜,可能为光学增透增反膜的制备提供一种新方法.

斯托克斯椭偏仪可以快速测量薄膜材料的光学参数，其仪器矩阵的精确度直接影响系统对薄膜反射光线斯托克斯参量的测量，间接限制了薄膜参数的测量精度。对线偏振光与标准薄膜片产生不同偏振态的机制进行理论推导，并根据四点定标法原理，利用线偏振光与标准薄膜片组合的在位定标方法实现对斯托克斯椭偏仪仪器矩阵的精确测量，有效避免了传统定标方法中光学元件方位角及其不完美产生的误差，进而提高了薄膜光学参数的测量精度。实验表明，采用在位定标方法，薄膜反射光线的斯托克斯参量的测量精度达0.6%，薄膜厚度及折射率的测量偏差分别