注册会员 | 设为首页 | 加入收藏夹
您好，欢迎光临本网站！[请登录] ！[注册会员]！  

搜索资源列表

  1. 硅集成电路工艺 期末考试题 答案（完整整理版）

  2. 化学气相沉积 物理气相沉积溅射镀膜蒸发镀膜2、扩散掺杂与离子注入掺杂所形成的杂质浓度分布各自的特点是什么？与扩散掺杂相比离子注入掺杂的优势与缺点各是什么? 3、简述离子注入工艺中退火的主要作用。

  3. 所属分类：专业指导

    • 发布日期：2009-12-31
    • 文件大小：107520
    • 提供者：shupl1988

  1. 磁控溅射PVD阳极设计

  2. 这是溅射镀膜中的阳极设计方面的pdf，希望能对大家的工作有帮助

  3. 所属分类：专业指导

    • 发布日期：2010-04-06
    • 文件大小：41984
    • 提供者：baslove

  1. 溅射镀膜原理及其应用

  2. 溅射镀膜技术基础知识 对于刚起步的人来说是很好的学习资料

  3. 所属分类：专业指导

    • 发布日期：2010-07-24
    • 文件大小：3145728
    • 提供者：jonathan_718

  1. AlN沿习的纳米薄膜文献

  2. 溅射镀膜方法沉积AlN纳米薄膜的沿袭，被模板晶化

  3. 所属分类：专业指导

    • 发布日期：2011-01-23
    • 文件大小：216064
    • 提供者：zhangjinlin001

  1. PVD磁控溅射镀膜工艺理论

  2. PVD磁控溅射镀膜工艺理论

  3. 所属分类：制造

    • 发布日期：2017-07-19
    • 文件大小：2097152
    • 提供者：baidu_39548464

  1. 真空镀膜技术对新型牙用烤瓷支架钴铬合金金瓷结合强度影响的研究

  2. 真空镀膜技术对新型牙用烤瓷支架钴铬合金金瓷结合强度影响的研究，吴峻岭，巢永烈， 目的: 研究一种新的工程学真空镀膜技术－等离子磁控反应溅射技术对新型牙用烤瓷支架钴铬合金金瓷结合强度的影响。方法: 用DA9-4烤�

  3. 所属分类：其它

    • 发布日期：2020-03-04
    • 文件大小：581632
    • 提供者：weixin_38713167

  1. 低颗粒间交换耦合SmCo磁性薄膜的研究

  2. 低颗粒间交换耦合SmCo磁性薄膜的研究，李宁，李明华，利用真空磁控溅射镀膜技术制备了不同Sm含量的SmCo薄膜，并对样品进行了退火处理。实验结果表明即使Sm含量为37.7 at.%，远远超过SmCo合金

  3. 所属分类：其它

    • 发布日期：2020-02-08
    • 文件大小：376832
    • 提供者：weixin_38514523

  1. 离子束溅射沉积氧化镁薄膜的取向竞争研究

  2. 离子束溅射沉积氧化镁薄膜的取向竞争研究，李啸，卢会平，用离子束溅射沉积，改变溅射离子束能量、镀膜时间、衬底倾角度，在玻璃衬底上制备了MgO薄膜。用X射线衍射对样品进行了表征，对MgO�

  3. 所属分类：其它

    • 发布日期：2020-02-02
    • 文件大小：770048
    • 提供者：weixin_38502916

  1. 粉末溅射法制备薄膜充电电池材料

  2. 粉末溅射法制备薄膜充电电池材料，王定友，任岳，经过长时间的研究和探索，在薄膜制作方法上我们研究开发了粉末磁控溅射镀膜法。利用这种方法，我们对全固体薄膜充电电池的多种负

  3. 所属分类：其它

    • 发布日期：2020-01-19
    • 文件大小：219136
    • 提供者：weixin_38745361

  1. 镀膜温度对WO3薄膜的电色性能影响

  2. 采用直流反应磁控溅射设备制备WO3薄膜,对一组温度在47~400℃范围制成的WO3薄膜进行恒电流的电化学循环试验;利用紫外-可见-近红外分光光度计测试WO3薄膜的电色性能。结果表明,染色后WO3薄膜的光学吸收,以及染色效率在波长为1 000~2 500 nm的范围内,温度400℃以下,随镀膜温度的升高而提高。分析认为,由于薄膜在300℃开始进入结晶态,350℃以上结晶化程度增加,从而在高温范围(350~400℃),光学与电化学特性上的改变是由于薄膜的结晶度的增加而导致的。在本实验中,注入电量为1

  3. 所属分类：其它

    • 发布日期：2020-05-26
    • 文件大小：166912
    • 提供者：weixin_38502239

  1. 用于陶瓷，金属材料的（直流，射频）磁控溅射操作步骤

  2. 磁控溅射 各种形式的设备 各种材料镀膜设备

  3. 所属分类：专业指导

    • 发布日期：2010-10-19
    • 文件大小：45056
    • 提供者：shcet

  1. 大平面玻璃基片磁控溅射真空镀膜简介

  2. 大平面玻璃基片磁控溅射真空镀膜简介.....

  3. 所属分类：专业指导

    • 发布日期：2010-07-06
    • 文件大小：286720
    • 提供者：zwb1111111

  1. 改造真空蒸发镀膜机为蒸发溅射两用镀膜机

  2. 摘 　 要: 本文阐述了改造普通真空蒸发镀膜机为蒸发与磁控溅射多用途镀膜机的意义。叙 述了两种磁控溅射靶的安装方式、 结构与特点。介绍了改造后的多用途镀膜机在本科生教学 实验和科学工作中的应用与效果。

  3. 所属分类：专业指导

    • 发布日期：2010-06-29
    • 文件大小：186368
    • 提供者：zwb1111111

  1. 真空镀膜实验讲义 溅射镀膜

  2. 真空镀膜实验 大学里很有用的实验 前一阵我们做的 传上来 大家来看看吧

  3. 所属分类：专业指导

    • 发布日期：2010-04-28
    • 文件大小：4194304
    • 提供者：josonmao

  1. 安防与监控中的应用于磁控溅射镀膜生产线的计算机监控系统的设计

  2. 摘  要：本文介绍了一种成功应用的磁控溅射镀膜生产线计算机监控系统的设计，重点讨论了计算机监控系统的硬件配置、软件设计、通信协议、控制过程实现以及软件编程的控制算法。 　　肇庆市大力真空设备有限公司生产的DJW（L）系列卧式（立式）磁控溅射镀膜生产线采用DC电源或中频电源控制平面靶、圆柱旋转靶或中频孪生靶在工件上溅射成膜，广泛应用于各种建筑玻璃、ITO透明导电玻璃、家电玻璃、高反射后视镜及亚克力镀膜等行业。 　　清华微电子推出高频管分立器件裸片，已做到9G截止频率 该系列生产线在吸收欧洲同

  3. 所属分类：其它

    • 发布日期：2020-12-06
    • 文件大小：184320
    • 提供者：weixin_38677505

  1. 靶材行业报告：溅射靶材

  2. 镀膜的主要工艺有物理气相沉积（PVD）和化学气相沉积（CVD）。（1）PVD 技术是目 前主流镀膜方法，其中的溅射工艺在半导体、显示面板应用广泛。PVD 技术分为真空蒸镀法、 溅镀法和离子镀法。三种方法各有优劣势：真空蒸镀法对于基板材质没有限制；溅镀法薄膜 的性质、均匀度都比蒸镀薄膜好；离子镀法的绕镀能力强，清洗过程简化，但在高功率下影 响镀膜质量。不同方法的选择主要取决于产品用途与应用场景。（2）CVD 技术主要通过化 学反应生成薄膜。在高温下把含有薄膜元素的一种或几种气相化合物或单质引入反应

  3. 所属分类：其它

    • 发布日期：2021-03-19
    • 文件大小：6291456
    • 提供者：weixin_38740596

  1. 脉冲磁控溅射制备树脂镜片红外防护功能薄膜

  2. 选取氮化硅和二氧化硅作为薄膜材料，借助膜系设计软件对膜系结构进行优化，采用中频脉冲磁控溅射技术进行薄膜制备。利用高反膜透射曲线拟合方法调整薄膜的实际沉积速率，减少膜厚控制误差，在树脂镜片CR39基底的凸面和凹面上分别镀制了符合设计要求的红外防护膜和可见光减反膜。镀膜后树脂镜片在420～680 nm的平均透过率大于95%，在近红外800～1400 nm波段的平均透过率小于60%，薄膜性能稳定，能够满足红外防护树脂镜片的日常使用需要。

  3. 所属分类：其它

    • 发布日期：2021-02-26
    • 文件大小：1048576
    • 提供者：weixin_38745925

  1. 在反应磁控溅射过渡区制备高反射膜的工艺控制

  2. 用反应磁控溅射法制备了Ta2O5和SiO2的单层膜和多层高反射薄膜, 研究了在过渡区制备高质量光学薄膜的影响因素和机制, 探讨了制备高质量光学薄膜的工艺, 并引入了一种结合拟合方法的被动控制技术来实现在磁控溅射过渡区制备高质量的光学多层膜。结果表明, 在反应磁控溅射过渡区制备的光学薄膜不仅具有比氧化区更高的沉积速率, 而且具有更高的折射率和更低的光损耗。在过渡区镀制光学多层膜时速率的变化与溅射电压的漂移有关, 并且可以通过监测溅射电压随时间的变化结合拟合算法加以修正。在表面均方根粗糙度为0.56

  3. 所属分类：其它

    • 发布日期：2021-02-10
    • 文件大小：2097152
    • 提供者：weixin_38727567

  1. 大功率射频板条CO

  2. 针对高功率射频板条CO2 激光器铜电极表面放电氧化、受射频放电的电子溅射，致使电极表面不光滑，辉光放电不均匀，光波导损耗严重等问题。利用Al2O3波导介质膜具有的反常色散效应、耐高温能力强的特点，采用磁控溅射镀膜技术对激光器电极表面先镀Al，而后阳极氧化获得Al2O3 波导介质膜。分析了磁控溅射工艺对膜层结构的影响，测量了镀膜电极对CO2 激光的反射率，并进行了放电实验检测。结果表明，溅射功率为250 W 时可得到致密的镀膜层结构；厚度6 μm 的Al2O3 薄膜，对波长10.6 μm 的CO2

  3. 所属分类：其它

    • 发布日期：2021-02-05
    • 文件大小：2097152
    • 提供者：weixin_38721811

  1. 应用于磁控溅射镀膜生产线的计算机监控系统的设计

  2. 摘  要：本文介绍了一种成功应用的磁控溅射镀膜生产线计算机监控系统的设计，重点讨论了计算机监控系统的硬件配置、软件设计、通信协议、控制过程实现以及软件编程的控制算法。 　　肇庆市大力真空设备有限公司生产的DJW（L）系列卧式（立式）磁控溅射镀膜生产线采用DC电源或中频电源控制平面靶、圆柱旋转靶或中频孪生靶在工件上溅射成膜，广泛应用于各种建筑玻璃、ITO透明导电玻璃、家电玻璃、高反射后视镜及亚克力镀膜等行业。 　　清华微电子推出高频管分立器件裸片，已做到9G截止频率 该系列生产线在吸收欧洲同

  3. 所属分类：其它

    • 发布日期：2021-01-19
    • 文件大小：178176
    • 提供者：weixin_38592134
« 12 3 »