通过旋涂法在单晶硅片上制备了一系列含有不同数目溴取代基的酞菁铜衍生物:一溴代四烷氧基酞菁铜(MBTAPcCu),二溴代四烷氧基酞菁铜(DBTAPcCu), 四溴代四烷氧基酞菁铜(TBTAPcCu)和无溴代四烷氧基酞菁铜(NBTAPcCu)薄膜,利用同步旋转起偏检偏器(RAP)型的宽谱扫描全自动椭圆偏振光谱仪测定了上述薄膜的椭偏光谱,获得了该系列薄膜的复折射率、复介电常数和吸收系数,研究了溴取代基对酞菁铜衍生物薄膜光学性质的影响.