利用准分子激光干涉结晶法使a-Si:H/a-SiNx:H多层膜中的超薄a-Si:H层定域晶化,成功地制备出三维有序分布的nc-Si阵列.原子力显微镜(AFM)、微区拉曼(micro-Raman)光谱及剖面透射电子显微镜(X-TEM)的分析结果揭示在晶化薄膜中已形成平均尺寸约为3.6 nm,横向周期2 μm,纵向周期与a-Si:H/a-SiNx:H多层膜周期(14 nm)相等的nc-Si阵列.