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  1. 多光束纳秒紫外激光制作硅表面微结构.pdf

  2. 该研究是改变硅表面微结构， 优化硅材料特性的一种新方法， 并扩展了大功率激光刻蚀在表面微加工领域的应用．

  3. 所属分类：其它

    • 发布日期：2019-09-05
    • 文件大小：2097152
    • 提供者：weixin_38744375

  1. Walki柔性电路板4E技术让RFID天线可持续生产

  2. 通过蚀刻工艺生产RFID天线的方法目前正受到一项新的专利技术的挑战：Walki-4E，这是一种高效、可持续生产柔性电路板的新方式。它可以通过不涉及液体化学品并使用纸作为基材的干法生产工艺实现。这种新技术还允许在天线生产中使用计算机并实现极其精确的电路板图案激光切割。

  3. 所属分类：其它

    • 发布日期：2020-10-20
    • 文件大小：71680
    • 提供者：weixin_38567873

  1. 基于双面凹面微透镜的高性能激光均质机

  2. 随着其在微光学器件和系统中的应用，微透镜阵列（MLA）引起了越来越多的兴趣。 在这封信中，我们提出了一种将旋转位移MLA应用于激光均质系统的新方法。 这些是不规则阵列，由两侧具有特定旋转角度的密堆积凹面MLA组成。 并且，使用单脉冲飞秒激光辅助化学湿法刻蚀成功地制造了具有新设计参数的双面MLA扩散器。 仿真和实验结果表明，双面MLA具有良好的均质性能。 另外，我们制造了具有不同旋转角度（θ）的漫射器，并且当θ= 60度时，漫射器获得了最佳的光学性能。

  3. 所属分类：其它

    • 发布日期：2021-03-17
    • 文件大小：1048576
    • 提供者：weixin_38610573

  1. 飞秒激光增强湿蚀刻Craft.io在曲面上直接制造复眼微透镜阵列

  2. 我们报告了飞秒激光增强化学蚀刻Craft.io在弯曲的基板上直接制造全向负微透镜阵列，该Craft.io被用作复制生物灵感的复眼的成型模板。 飞秒激光玻璃玻璃基板的弯曲加工采用通用的xyz平台，无需垂直于激光束旋转样品表面，并且在氢氟酸蚀刻后会产生均匀，全向排列的负微透镜。 使用凹面玻璃基板上的负微透镜阵列作为模制模板，我们制作了一个人工复眼，在5000毫米半球中密堆积了3000枚直径为95 lm的正微透镜。 与转印过程相比，通过我们的方法直接在曲面模具上制造的负微透镜没有畸变，并且复制的人造眼

  3. 所属分类：其它

    • 发布日期：2021-03-07
    • 文件大小：262144
    • 提供者：weixin_38639642

  1. 偏4°4HSiC同质外延层上新形貌三角形缺陷研究

  2. 利用水平热壁CVD方法，基于SiH4C3H8H2生长系统在n型4HSiC偏4°衬底上进行同质外延生长。通过Nomarski光学显微镜、激光共聚焦显微镜和拉曼散射光谱(Raman)，对外延层中的新形貌三角形缺陷——顶端有倒金字塔结构的三角形缺陷(IPRTD)的表面形貌、结构进行了表征，并根据表征结果提出了该新形貌三角形缺陷的产生机理。研究结果表明，IPRTD由3CSiC晶型构成；在外延生长中，位于IPRTD生长方向上游的位错缺陷所引起的表面吸附原子的2D成核生长是导致3CSiC晶型出现的

  3. 所属分类：其它

    • 发布日期：2021-02-21
    • 文件大小：1048576
    • 提供者：weixin_38558054

  1. 激光刻蚀硅磁敏三极管发射区引线槽的研究

  2. 提出了一种激光与微电子机械加工系统(MEMS)相结合刻蚀硅磁敏三极管发射区引线槽的方法。实验结果表明，利用这种新方法刻蚀的硅磁敏三极管发射区引线槽具有刻蚀速率大、质量好的优点，并且可以实现对，〈111〉晶向硅片无掩膜加工。

  3. 所属分类：其它

    • 发布日期：2021-02-13
    • 文件大小：291840
    • 提供者：weixin_38683930

  1. 计算机光学元件的制作及新应用

  2. 论述计算机光学元件制作的方法,着重介绍了灰度掩模技术,反应离子束刻蚀法和激光直写技术,并且说明了其在空间聚焦器上和激光雷达上的新应用。

  3. 所属分类：其它

    • 发布日期：2021-02-11
    • 文件大小：2097152
    • 提供者：weixin_38548231

  1. 对硅片进行无抗蚀膜光化学蚀刻的一种新方法

  2. 研究了一种在硅片上进行无抗蚀膜光化学蚀刻的新方法,使用过氧化氢(H2O2)和氟酸(HF)作为光化学媒质,使用ArF紫外激光作为光源,无需事先加工抗蚀膜,可直接在硅表面进行蚀刻.在H2O2与HF的浓度比为1.3时,蚀刻效果最佳,当激光能量密度为29 mJ/cm2, 照射脉冲数为10000次时,得到210 nm的蚀刻深度.

  3. 所属分类：其它

    • 发布日期：2021-02-11
    • 文件大小：99328
    • 提供者：weixin_38518668

  1. 用于惯性约束聚变驱动器的色分离光栅-光束采样光栅集成元件的制作

  2. 针对惯性约束聚变(ICF)驱动系统特别是其终端光学系统对元件数和元件厚度的限制要求，利用衍射光学元件(DOE)易于集成的优点，提出一种在石英基片的两面分别曝光制作色分离光栅(CSG)和光束采样光栅(BSG)的新方法，仅需一个石英片即可同时实现谐波分离和光束采样的功能。分别采用光学制版和电子束直写的方法制作了色分离光栅和光束采样光栅的掩模，并利用离子束刻蚀的方法加工了色分离光栅-光束采样光栅集成元件。结果表明，此集成元件的三倍频光能量利用率、色分离度以及采样效率等参数均与三倍频光通过色分离光栅、光

  3. 所属分类：其它

    • 发布日期：2021-02-11
    • 文件大小：802816
    • 提供者：weixin_38660918

  1. 半导体激光化学刻蚀溶液浓度的电流变化选择法

  2. 提出了一种激光诱导液相腐蚀新方法——利用腐蚀电流特性和腐蚀图像均匀度相结合的方法，选择出适合的腐蚀溶液。该方法可以提高激光液相腐蚀的性能，解决腐蚀溶液选择的诸多难题，在特殊结构光电器件和光电集成中具有很好的应用前景。

  3. 所属分类：其它

    • 发布日期：2021-02-10
    • 文件大小：602112
    • 提供者：weixin_38592611

  1. HF蚀刻+逐层抛光法表征熔石英亚表面损伤层深度

  2. 脆性材料的研磨过程会不可避免地产生亚表面损伤层，对亚表面损伤层的表征和抑制一直是获得高激光损伤阈值熔石英光学元件的关注热点。回顾了几种亚表面有损表征技术，通过实验重新评价了蚀刻表面峰谷(PV)粗糙度法的可行性，分析了其误差较大的原因。在此基础上，提出了一种新的亚表面损伤层深度检测方法HF蚀刻+逐层抛光法。分别采用这两种表征技术以及粗糙度估计法、磁流变斜面抛光法对不同工艺研磨的熔石英亚表面裂纹深度进行了对比检测，结果表明这几种表征方法相互符合很好。

  3. 所属分类：其它

    • 发布日期：2021-02-09
    • 文件大小：2097152
    • 提供者：weixin_38707342

  1. 激光蚀刻的新方法

  2. 大阪大学S. Namba教授等人研究出一种能高速进行精细加工而不损坏基片的新激光蚀刻法。该法利用了可见氩离子激光照射时四氯化碳（一种反应气体)和基片表面间所发生的“光泵热化学反应”。据称这种方法成本低，无须掩模即可加工细的布线图案，速度比用紫外准分子激光快三个数置级。

  3. 所属分类：其它

    • 发布日期：2021-02-08
    • 文件大小：604160
    • 提供者：weixin_38602563

  1. 光学刻蚀光栅的瞬时发展:研究激光感生破坏的新方法

  2. 前巳报导用于制造小衍射光栅的光学刻蚀技术，在此技术中，薄的金属薄膜与红宝石激光腔之轴成一角度放置，在激光器运转中构成Q开关。这里，我们要报导由于激光对腔外薄膜上的影响而形成这种刻蚀光栅的综合研究。对多种金属薄膜中此类光栅的发展进行了时间分辨的研究，也研究了薄膜厚度、入射激光强度和薄膜的角度取向的影响。

  3. 所属分类：其它

    • 发布日期：2021-02-08
    • 文件大小：3145728
    • 提供者：weixin_38657115

  1. 激光阶梯刻蚀法制备45°微反射镜及垂直耦合研究

  2. 提出了一种基于准分子激光制备45°微反射镜的新方法──激光阶梯刻蚀法，介绍了该方法的工艺流程。通过优化参数制备了微反射镜样品，详细分析了样品参数对微镜反射性能的影响。利用微反射镜样品进行垂直耦合实验，深入讨论了影响系统损耗的主要因素。实验结果表明，微反射镜样品造成的损耗约为3.5 dB。该制备方法有望在大尺寸光波导互连背板耦合器件的研制中得到广泛应用。

  3. 所属分类：其它

    • 发布日期：2021-02-07
    • 文件大小：5242880
    • 提供者：weixin_38531017

  1. 激光诱导钡化合物化学反应刻蚀石英玻璃的机理

  2. 提出了两种利用红外激光诱导钡化合物化学反应刻蚀石英玻璃的新方法, 钡化合物分别选用BaCrO4和Ba(OH)2。通过能谱分析进行推理和利用X射线衍射图谱分析和验证, 发现激光诱导BaCrO4化学反应刻蚀石英玻璃过程中得到的微通道出现崩边和微裂纹现象, BaCrO4分解生成的BaO在高温条件下与SiO2发生化学反应生成BaSiO3, 因此这种方法能直接用于刻蚀石英玻璃；在激光诱导Ba(OH)2化学反应刻蚀石英玻璃的过程中, Ba(OH)2以及其分解生成的BaO在高温条件下都会与SiO2发生化学反应

  3. 所属分类：其它

    • 发布日期：2021-02-04
    • 文件大小：6291456
    • 提供者：weixin_38558623