通过将光学腔与外围热屏蔽层之间的热传递模型等效为多级电阻电容(RC)积分电路，计算得到光学腔的温度对外界环境温度变化的响应特性。用此方法探讨了当热屏蔽层的质量被限定时，热屏蔽层与光学腔的距离、热屏蔽层的层数和厚度对光学腔的温度响应特性的影响。分析结果表明，热屏蔽层与光学腔的距离从40 mm减小至5 mm，可使光学腔的温度响应时间增加1倍；当热屏蔽层的层数从1层增加至3层，且增加光学腔的最内层热屏蔽层的厚度，可使光学腔的温度对快速的环境温度变化的敏感度减小1个数量级以上。通过优化后的光学腔的热屏蔽