您好,欢迎光临本网站![请登录][注册会员]  

搜索资源列表

  1. 用于光刻调焦调平的反射式投影光学系统设计

  2. 调焦调平传感器是光刻机关键分系统之一,用于曝光前对硅片高度形貌进行测量。投影光学系统是调焦调平传感器的核心,其成像质量直接影响传感器测量精度。根据调焦调平传感器的测量原理与像差理论,分析得到投影光学系统放大倍率、畸变、远心度和分辨率对调焦调平系统测量精度的影响规律。为此,优选反射式投影光学系统设计方案,该方案具有结构简单、无色差,畸变小等特点,并利用ZEMAX软件进行设计优化和公差分析,所设计系统工作波长为600~1000 nm,放大率为1.000,视场3 mm×26 mm范围内弥散斑均方根半径
  3. 所属分类:其它

    • 发布日期:2021-02-21
    • 文件大小:6291456
    • 提供者:weixin_38651929