正由劳伦斯·利弗莫尔国家实验室研究的一种称为“激光比例绘图仪”的新方法可以使设计、制造、试验样机和定额生产特殊电路所需的时间从数周减少到几小时。最近在巴尔的摩CLEO会议上展示了这项技术，它通过选定气体传输强的激光脉冲可把集成电路直接“画”到硅晶片上。