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搜索资源 - 用蒙特卡罗法研究高散射介质中的成像
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用蒙特卡罗法研究高散射介质中的成像
用蒙特卡罗方法模拟了均匀介质中含有散射系数和吸收系数不同的物体时,物体的位置和大小对表面漫射强度时间响应函数的影响;在频率域分析了用幅度差和相位差成像时,物体位置和大小对成像质量的影响。结果表明相位的探测比幅度的探测灵敏,高频探测比低频探测灵敏;物体与光源的几何位置影响物体的像质,光源与物体共线时成像最灵敏,横向位置变化比纵向位置变化影响大;物体越大,成像效果越好,物体小到一定程度时,对幅度和相位的影响超出系统的探测能力,这决定成像系统的分辨率,它是诸多因素的综合。
所属分类:
其它
发布日期:2021-02-11
文件大小:124928
提供者:
weixin_38742124