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  1. 磁控溅射PVD阳极设计

  2. 这是溅射镀膜中的阳极设计方面的pdf，希望能对大家的工作有帮助

  3. 所属分类：专业指导

    • 发布日期：2010-04-06
    • 文件大小：41984
    • 提供者：baslove

  1. PVD磁控溅射镀膜工艺理论

  2. PVD磁控溅射镀膜工艺理论

  3. 所属分类：制造

    • 发布日期：2017-07-19
    • 文件大小：2097152
    • 提供者：baidu_39548464

  1. 低颗粒间交换耦合SmCo磁性薄膜的研究

  2. 低颗粒间交换耦合SmCo磁性薄膜的研究，李宁，李明华，利用真空磁控溅射镀膜技术制备了不同Sm含量的SmCo薄膜，并对样品进行了退火处理。实验结果表明即使Sm含量为37.7 at.%，远远超过SmCo合金

  3. 所属分类：其它

    • 发布日期：2020-02-08
    • 文件大小：376832
    • 提供者：weixin_38514523

  1. Cu-MgF2复合纳米颗粒薄膜的光学非线性特性

  2. Cu-MgF2复合纳米颗粒薄膜的光学非线性特性，孙兆奇，孙大明，用射频磁控溅射镀膜装置制备的Cu-MgF2复合纳米颗粒薄膜，纳米Cu颗粒的粒径为10.5～23.3nm，表面等离子激元共振吸收峰随Cu颗粒体积分数和

  3. 所属分类：其它

    • 发布日期：2020-02-05
    • 文件大小：953344
    • 提供者：weixin_38657102

  1. 粉末溅射法制备薄膜充电电池材料

  2. 粉末溅射法制备薄膜充电电池材料，王定友，任岳，经过长时间的研究和探索，在薄膜制作方法上我们研究开发了粉末磁控溅射镀膜法。利用这种方法，我们对全固体薄膜充电电池的多种负

  3. 所属分类：其它

    • 发布日期：2020-01-19
    • 文件大小：219136
    • 提供者：weixin_38745361

  1. 氢化硅碳薄膜制备及其光电性能研究

  2. 氢化硅碳薄膜制备及其光电性能研究，马胜利，张旭东，本文采用电弧增强磁控溅射镀膜(AEMS)技术制备SiCx:H薄膜，采用新颖的独立Si、C平面靶材，通过采用不同的工艺参数得到不同显微结构及光

  3. 所属分类：其它

    • 发布日期：2020-01-08
    • 文件大小：880640
    • 提供者：weixin_38502762

  1. Magnetic reversal mechanism in CoPt/AlN multilayer film with strong perpendicular magnetic anisotropy

  2. 强垂直磁各向异性CoPt/AlN多层膜的反向磁化机理研究，俞有幸，史绩，本文研究了强垂直各向异性CoPt/AlN纳米多层薄膜的反向磁化机理。利用高真空对靶磁控溅射镀膜技术在石英基底上制备了AlN(5 nm)/[CoPt(2 nm)/

  3. 所属分类：其它

    • 发布日期：2020-01-07
    • 文件大小：720896
    • 提供者：weixin_38614112

  1. 镀膜温度对WO3薄膜的电色性能影响

  2. 采用直流反应磁控溅射设备制备WO3薄膜,对一组温度在47~400℃范围制成的WO3薄膜进行恒电流的电化学循环试验;利用紫外-可见-近红外分光光度计测试WO3薄膜的电色性能。结果表明,染色后WO3薄膜的光学吸收,以及染色效率在波长为1 000~2 500 nm的范围内,温度400℃以下,随镀膜温度的升高而提高。分析认为,由于薄膜在300℃开始进入结晶态,350℃以上结晶化程度增加,从而在高温范围(350~400℃),光学与电化学特性上的改变是由于薄膜的结晶度的增加而导致的。在本实验中,注入电量为1

  3. 所属分类：其它

    • 发布日期：2020-05-26
    • 文件大小：166912
    • 提供者：weixin_38502239

  1. 用于陶瓷，金属材料的（直流，射频）磁控溅射操作步骤

  2. 磁控溅射 各种形式的设备 各种材料镀膜设备

  3. 所属分类：专业指导

    • 发布日期：2010-10-19
    • 文件大小：45056
    • 提供者：shcet

  1. 大平面玻璃基片磁控溅射真空镀膜简介

  2. 大平面玻璃基片磁控溅射真空镀膜简介.....

  3. 所属分类：专业指导

    • 发布日期：2010-07-06
    • 文件大小：286720
    • 提供者：zwb1111111

  1. 改造真空蒸发镀膜机为蒸发溅射两用镀膜机

  2. 摘 　 要: 本文阐述了改造普通真空蒸发镀膜机为蒸发与磁控溅射多用途镀膜机的意义。叙 述了两种磁控溅射靶的安装方式、 结构与特点。介绍了改造后的多用途镀膜机在本科生教学 实验和科学工作中的应用与效果。

  3. 所属分类：专业指导

    • 发布日期：2010-06-29
    • 文件大小：186368
    • 提供者：zwb1111111

  1. 安防与监控中的应用于磁控溅射镀膜生产线的计算机监控系统的设计

  2. 摘  要：本文介绍了一种成功应用的磁控溅射镀膜生产线计算机监控系统的设计，重点讨论了计算机监控系统的硬件配置、软件设计、通信协议、控制过程实现以及软件编程的控制算法。 　　肇庆市大力真空设备有限公司生产的DJW（L）系列卧式（立式）磁控溅射镀膜生产线采用DC电源或中频电源控制平面靶、圆柱旋转靶或中频孪生靶在工件上溅射成膜，广泛应用于各种建筑玻璃、ITO透明导电玻璃、家电玻璃、高反射后视镜及亚克力镀膜等行业。 　　清华微电子推出高频管分立器件裸片，已做到9G截止频率 该系列生产线在吸收欧洲同

  3. 所属分类：其它

    • 发布日期：2020-12-06
    • 文件大小：184320
    • 提供者：weixin_38677505

  1. 脉冲磁控溅射制备树脂镜片红外防护功能薄膜

  2. 选取氮化硅和二氧化硅作为薄膜材料，借助膜系设计软件对膜系结构进行优化，采用中频脉冲磁控溅射技术进行薄膜制备。利用高反膜透射曲线拟合方法调整薄膜的实际沉积速率，减少膜厚控制误差，在树脂镜片CR39基底的凸面和凹面上分别镀制了符合设计要求的红外防护膜和可见光减反膜。镀膜后树脂镜片在420～680 nm的平均透过率大于95%，在近红外800～1400 nm波段的平均透过率小于60%，薄膜性能稳定，能够满足红外防护树脂镜片的日常使用需要。

  3. 所属分类：其它

    • 发布日期：2021-02-26
    • 文件大小：1048576
    • 提供者：weixin_38745925

  1. 极紫外光刻照明系统宽带Mo/Si 多层膜设计与制备

  2. 针对极紫外光刻照明系统中一块小尺寸反射镜大入射角带宽的需求，采用Si层有效厚度与公转速度关系式和多层膜周期厚度与公转速度关系式，完成了宽带Mo/Si多层膜设计膜系的制备工作。在磁控溅射镀膜机上制备了一系列不同周期厚度和G 值(Mo层厚度与多层膜周期厚度的比值)的Mo/Si多层膜规整膜系，并利用掠入射X 射线反射谱表征，分别得到多层膜周期厚度、Mo层有效厚度和Si层有效厚度与公转速度的关系式以及多层膜界面粗糙度。采用Levenberg-Marquardt 算法完成了宽带膜系设计，设计结果为在16.

  3. 所属分类：其它

    • 发布日期：2021-02-23
    • 文件大小：2097152
    • 提供者：weixin_38609571

  1. W/SiO

  2. 采用磁控溅射镀膜仪制备了基于过渡金属W和介质SiO2的6层薄膜样品, 膜系结构为Cu (>100.0 nm)/SiO2(63.5 nm)/W(11.0 nm)/SiO2(60.0 nm)/W(5.4 nm)/SiO2(75.5 nm)。在250~2500 nm的波长范围内, 该样品的太阳光吸收率为95.3%, 且在400 ℃低真空(6 Pa)条件下退火72 h之后, 样品的反射光谱特性变化较小, 证明了该样品具有极高的热稳定性。使用红外热成像仪对样品的红外辐射特性进行了在位实时表征, 结果

  3. 所属分类：其它

    • 发布日期：2021-02-22
    • 文件大小：3145728
    • 提供者：weixin_38730389

  1. 耐高温全金属化封装的光纤法布里珀罗干涉仪和光纤光栅复合传感器

  2. 利用非本征型光纤法布里珀罗干涉仪(EFPI)和光纤布拉格光栅(FBG)制作了一种温度和应力同时测量的复合光纤传感器。采用超高真空磁控溅射镀膜、电镀及激光焊接技术实现了光纤传感器的耐高温全金属无胶化封装。实验结果表明：在290 ℃温度条件下传感器的应力灵敏度为90 pm/N，具备良好的线性测量能力（约0.9965）；传感器的温度灵敏度为12 pm/℃，线性度可达到0.9988，其温度补偿效果较好。实验结果同时证明了采用超高真空磁控溅射镀膜及激光焊接技术实现光纤传感器耐高温全金属化封装方法的可行性与

  3. 所属分类：其它

    • 发布日期：2021-02-13
    • 文件大小：2097152
    • 提供者：weixin_38655284

  1. 水窗波段反射式偏振光学元件的设计和制作

  2. 水窗波段是软X射线进行生物活细胞显微成像的最佳波段,因此对于水窗波段偏振光学元件的研究有着非常重要的意义。用菲涅耳公式计算出在水窗波段内不同材料组合对应不同波长的最大反射率,模拟分析了多层膜周期和表界面粗糙度对多层膜偏振光学元件性能的影响。用超高真空磁控溅射镀膜设备,制作出2.40 nm、3.00 nm和4.30 nm波长处W/B4C多层膜偏振元件,并用X射线衍射仪对元件的周期厚度进行了测量,得到的测量结果与设计值偏差很小,可以进行实际应用。为水窗波段反射式偏振光学元件的研究提供了理论依据,同时

  3. 所属分类：其它

    • 发布日期：2021-02-12
    • 文件大小：851968
    • 提供者：weixin_38735182

  1. 在反应磁控溅射过渡区制备高反射膜的工艺控制

  2. 用反应磁控溅射法制备了Ta2O5和SiO2的单层膜和多层高反射薄膜, 研究了在过渡区制备高质量光学薄膜的影响因素和机制, 探讨了制备高质量光学薄膜的工艺, 并引入了一种结合拟合方法的被动控制技术来实现在磁控溅射过渡区制备高质量的光学多层膜。结果表明, 在反应磁控溅射过渡区制备的光学薄膜不仅具有比氧化区更高的沉积速率, 而且具有更高的折射率和更低的光损耗。在过渡区镀制光学多层膜时速率的变化与溅射电压的漂移有关, 并且可以通过监测溅射电压随时间的变化结合拟合算法加以修正。在表面均方根粗糙度为0.56

  3. 所属分类：其它

    • 发布日期：2021-02-10
    • 文件大小：2097152
    • 提供者：weixin_38727567

  1. 大功率射频板条CO

  2. 针对高功率射频板条CO2 激光器铜电极表面放电氧化、受射频放电的电子溅射，致使电极表面不光滑，辉光放电不均匀，光波导损耗严重等问题。利用Al2O3波导介质膜具有的反常色散效应、耐高温能力强的特点，采用磁控溅射镀膜技术对激光器电极表面先镀Al，而后阳极氧化获得Al2O3 波导介质膜。分析了磁控溅射工艺对膜层结构的影响，测量了镀膜电极对CO2 激光的反射率，并进行了放电实验检测。结果表明，溅射功率为250 W 时可得到致密的镀膜层结构；厚度6 μm 的Al2O3 薄膜，对波长10.6 μm 的CO2

  3. 所属分类：其它

    • 发布日期：2021-02-05
    • 文件大小：2097152
    • 提供者：weixin_38721811

  1. 应用于磁控溅射镀膜生产线的计算机监控系统的设计

  2. 摘  要：本文介绍了一种成功应用的磁控溅射镀膜生产线计算机监控系统的设计，重点讨论了计算机监控系统的硬件配置、软件设计、通信协议、控制过程实现以及软件编程的控制算法。 　　肇庆市大力真空设备有限公司生产的DJW（L）系列卧式（立式）磁控溅射镀膜生产线采用DC电源或中频电源控制平面靶、圆柱旋转靶或中频孪生靶在工件上溅射成膜，广泛应用于各种建筑玻璃、ITO透明导电玻璃、家电玻璃、高反射后视镜及亚克力镀膜等行业。 　　清华微电子推出高频管分立器件裸片，已做到9G截止频率 该系列生产线在吸收欧洲同

  3. 所属分类：其它

    • 发布日期：2021-01-19
    • 文件大小：178176
    • 提供者：weixin_38592134
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