等离子体和纳米光子学

纳米线是具有较大纵横比的一维（1D）纳米结构，可用于操纵电子，光子，等离激元，声子和原子用于多种技术。 在用于低维光子学的各种纳米结构中，一维纳米线具有极大的重要性，因为它能够以最小的空间和材料要求，最小的光路和高的机械柔韧性，以单模方式传送紧密受限的光场。 近年来，由于一维纳米线比许多其他结构（如OD量子点（QD）和2D膜）具有更优越的性能，因此纳米线光子学在基​​础研究和技术应用方面都越来越吸引科学家的兴趣。 作为亚波长波导，就侧壁平滑度和直径均匀性而言，通过化学生长或物理拉伸技术制造的自立

通过高频等离子体增强化学气相沉积（HF PECVD）在低温下沉积氢化非晶硅氮化物膜（SiNx：H）。 主要工作是研究等离子体频率和等离子体功率密度在确定薄膜特性（尤其是应力）中的作用。 通过傅立叶变换红外光谱（FTIR）获得有关膜中化学键的信息。 SiNx：H膜中的应力由衬底曲率测量确定。 结果表明，等离子体频率在控制SiNx：H薄膜的应力中起着重要作用。 对于以40.68MHz的等离子体频率生长的氮化硅层，观察到初始拉伸应力在400MPa-700MPa的范围内。 氮化硅膜的固有应力的测量结果表