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搜索资源 - 紫外激光波长(266nm)多孔二氧化硅减反膜
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紫外激光波长(266 nm)多孔二氧化硅减反膜
以正硅酸乙酯作为前驱体,乙醇作为溶剂,氨水作为催化剂,在碱催化体系下制备了高分散的SiO2溶胶;然后采用提拉法在不同浓度的SiO2溶胶涂膜液中制备了四倍频266 nm波长增透的SiO2减反膜,并对各膜层的性能进行了测试。测试结果表明:在浓度最大的SiO2溶胶中以4.5 cm·min -1的提拉速度制备得到的四倍频SiO2减反膜的性能最优,其在266 nm处的透过率达到了99.307%,表面粗糙度为1.339 nm,且透过率稳定性优异。
所属分类:
其它
发布日期:2021-02-21
文件大小:2097152
提供者:
weixin_38743076