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  1. Zeiss Auriga FIB软件操作说明书

  2. 用于Zeiss Auriga 场发射聚焦离子束电子束双束显微镜的软件操作说明书

  3. 所属分类：讲义

    • 发布日期：2015-04-22
    • 文件大小：8388608
    • 提供者：xiahuibsb

  1. 不同状态Zr52.5Cu17.9Ni14.6Al10Ti5非晶合金微尺度拉伸性能的研究

  2. 不同状态Zr52.5Cu17.9Ni14.6Al10Ti5非晶合金微尺度拉伸性能的研究，王晓磊，江峰，本文选取Zr52.5Cu17.9Ni14.6Al10Ti5 (vit 105)非晶合金，通过控制退火工艺制备了一系列不同状态的非晶样品。利用聚焦离子束（FIB）加工制备微�

  3. 所属分类：其它

    • 发布日期：2020-02-26
    • 文件大小：493568
    • 提供者：weixin_38625192

  1. 微尺度Zr52.5Cu17.9Ni14.6Al10Ti5非晶合金弯曲断裂性能的研究

  2. 微尺度Zr52.5Cu17.9Ni14.6Al10Ti5非晶合金弯曲断裂性能的研究，王晓磊，江峰，本文采用原位悬臂梁弯曲试验研究了微尺度Zr52.5Cu17.9Ni14.6Al10Ti5（Vit105）非晶合金试样的弯曲断裂行为。采用聚焦离子束加工技术制备特�

  3. 所属分类：其它

    • 发布日期：2020-02-17
    • 文件大小：588800
    • 提供者：weixin_38685857

  1. 聚焦离子束法制备金属材料的TEM试样

  2. 聚焦离子束法制备金属材料的TEM试样，申华海，向霞，制备制备高质量的透射电镜试样是获得材料完整结构信息的基础，聚焦离子束技术已被有效地应用于制备各种材料的透射电镜试样。对于

  3. 所属分类：其它

    • 发布日期：2020-01-07
    • 文件大小：701440
    • 提供者：weixin_38694355

  1. Bi2Te3/Bi2Se3拓扑绝缘体的点缺陷研究

  2. Bi2Te3/Bi2Se3拓扑绝缘体的点缺陷研究，姜颖，王勇，通过分子束外延（MBE）方法制备出Sb/Cr掺杂的Bi2Te3以及Fe掺杂的Bi2Se3材料。联合利用电子背散射衍射（EBSD）仪及聚焦离子束（FIB）加工仪�

  3. 所属分类：其它

    • 发布日期：2020-01-06
    • 文件大小：585728
    • 提供者：weixin_38735101

  1. 聚焦离子束加工

  2. 聚焦离子束加工ppt,1:加工原理及装置2:离子束加工工艺特点 3:离子束加工的应用

  3. 所属分类：专业指导

    • 发布日期：2013-05-08
    • 文件大小：2097152
    • 提供者：yhq0814

  1. 专用芯片技术中的芯片反向技术干货：FIB芯片电路修改

  2. 在各类应用中，以线路修补和布局验证这一类的工作具有最大经济效益，局部的线路修改可省略重作光罩和初次试作的研发成本，这样的运作模式对缩短研发到量产的时程绝对有效，同时节省大量研发费用。封装后的芯片，经测试需将两条线路连接进行功能测试，此时可利用聚焦离子束系统将器件上层的钝化层打开，露出需要连接的两个金属导线，利用离子束沉积Pt材料，从而将两条导线连接在一起，由此可大大缩短芯片的开发时间。这也是芯片解密常用到手法。 　　利用聚焦离子束进行线路修改，（A）、（B）将欲连接线路上的钝化层打开

  3. 所属分类：其它

    • 发布日期：2020-10-16
    • 文件大小：358400
    • 提供者：weixin_38687505

  1. 多孔硅上制备大光子带隙的单量子点与半导体微腔的强耦合三维光子...

  2. 三维光子晶体由于存在完全的三维光子带隙而日益引起人们的兴趣。虽然人们已经能够制备出光子晶体，但是制备出带隙在近红外或者可见光波段的光子晶体结构还是很困难的。美国加利福尼亚技术研究所的J. Schilling等人用光电化学方法和聚焦离子束技术相结合，用聚焦离子束在已经制备出一个方向上光子晶体结构的多孔硅上制备了另外一个维度的光子晶体结构，形成六方格子正交结构的光子晶体，并进行了光学性能方面的测试。光致发光数据显示的强关联也显示了被激发的量子点和腔体模式下的散射效应是不同的。该成果发表在APL.,

  3. 所属分类：其它

    • 发布日期：2020-12-10
    • 文件大小：32768
    • 提供者：weixin_38595473

  1. 聚焦离子束曝光技术

  2. （1、中国科学院电工研究所，北京100080；2、中国科学院研究生院 北京100039） 摘要：聚焦离子束技术是一种集形貌观测、定位制样、成份分析、薄膜淀积和无掩模刻蚀各过程于一身的新型微纳加工技术。它大大提高了微电子工业上材料、工艺、器件分析及修补的精度和速度，目前已经成为微电子技术领域必不可少的关键技术之一。对聚焦离子束曝光技术作了介绍。 关键词：聚焦离子束，液态金属离子源，曝光 中图分类号：TN305.7 文献标识码：A 文章编号：1004－4507（2005）12－0056－03 聚焦离

  3. 所属分类：其它

    • 发布日期：2020-12-09
    • 文件大小：94208
    • 提供者：weixin_38732463

  1. 通过聚焦离子束的精确大面积纳米线操作制备各向异性纳米材料

  2. 通过聚焦离子束的精确大面积纳米线操作制备各向异性纳米材料

  3. 所属分类：其它

    • 发布日期：2021-03-17
    • 文件大小：1048576
    • 提供者：weixin_38616120

  1. 由Au膜上的亚波长大小的Kong阵列组成的等离子滤色片的偏振特性

  2. 由金属膜组成的等离子滤色片可以轻松调节。 使用聚焦离子束在200 nm厚的Au膜上制作出具有圆形，方形和矩形形状的亚波长尺寸的Kong的周期性阵列。 该结构用作等离激元彩色滤光片，用于在不同偏振方向的白光照射下表现出颜色变化。 我们发现，对于矩形Kong阵列，透射光的颜色会随着偏振方向发生很大变化。 但是，对于圆Kong和方Kong的阵列，透射光的颜色对入射光的偏振方向不敏感。 我们得出的结论是，围绕单个Kong的局部表面等离激元是影响透射光颜色的关键因素，而不是周期性阵列感应的表面等离激元极化

  3. 所属分类：其它

    • 发布日期：2021-03-10
    • 文件大小：3145728
    • 提供者：weixin_38704156

  1. 软X射线聚焦波带片制备工艺的研究

  2. 利用全息光刻和离子束刻蚀技术制作了用于软X射线聚焦和色散的三种参数的高精度菲涅耳(Fresnel)波带片，给出了实验结果。

  3. 所属分类：其它

    • 发布日期：2021-03-05
    • 文件大小：783360
    • 提供者：weixin_38717156

  1. La0.67Ca0.33MnO3纳米桥的聚焦离子束制备和磁电传输性能

  2. 使用脉冲电子沉积技术在单晶硅衬底上生长平均粒径接近150 nm的La0.67Ca0.33MnO3颗粒膜，然后将聚焦离子束引入以在该颗粒上制备尺寸为300 x 900 nm的纳米桥电影。 研究了两个样品的磁传输性质。 对于薄膜，在与温度相关的电阻（RT）曲线中，只有一个电阻峰值位于182 K，远低于250 K的铁磁-顺磁转变温度（T（C））。在纳米曲线的RT曲线和取决于温度（MR-T）曲线的磁阻中都观察到一个峰，一个峰在186 K，非常接近薄膜的金属-绝缘体转变温度（T（P）），另一个峰一个是在2

  3. 所属分类：其它

    • 发布日期：2021-03-04
    • 文件大小：735232
    • 提供者：weixin_38699613

  1. 机械剥落制成的薄膜状BSCCO单晶

  2. 机械剥落已被证明是一种有效的技术，可以生产一层至多层的强各向异性材料，例如石墨，NbSe2和Bi2Te3。 使用这种技术，成功地生产了典型厚度为几纳米到几十纳米的薄膜状BSCCO（Bi2Sr2CaCu2O8 +δ和Bi2Sr2Ca2Cu3O8 +δ）单晶。 最薄的晶体在c轴上只有0.5个晶胞。 测得的30 nm厚晶体的电阻率-温度特性显示出极好的超导性。 观察到，剥落的薄膜状单晶的拓扑结构可以在AFM和轮廓仪测量中复制基板的结构。 借助双束聚焦离子束，在横截面图中可以看到薄膜状BSCCO单晶与阶

  3. 所属分类：其它

    • 发布日期：2021-02-24
    • 文件大小：829440
    • 提供者：weixin_38589812

  1. Cu互连应力迁移温度特性研究

  2. 提出了一种基于扩散-蠕变机制的空洞生长模型,结合应力模拟计算和聚焦离子束分析技术研究了Cu互连应力诱生空洞失效现象,探讨了应力诱生空洞的形成机制并分析了空洞生长速率与温度、应力梯度和扩散路径的关系.研究结果表明,在CuM1互连顶端通孔拐角底部处应力和应力梯度达到极大值并观察到空洞出现.应力梯度是决定空洞成核位置及空洞生长速率的关键因素.应力迁移是空位在应力梯度作用下沿主导扩散路径进行的空位积聚与成核现象,应力梯度的作用与扩散作用随温度变化方向相反,并存在一个中值温度使得应力诱生空洞速率达到极大值

  3. 所属分类：其它

    • 发布日期：2021-02-23
    • 文件大小：763904
    • 提供者：weixin_38690508

  1. 端面上具有不同深度凹槽的超小口径激光器振荡的实验研究

  2. 表面波纹通常用于通过激发表面等离激元来增加超小Kong径激光器（VSAL）的输出功率。 一些实验结果表明，如果制造了表面波纹，则不能激光加工VSAL，而一些实验结果表明，可以激光加工。 为了研究振荡条件，我们制造了带有有限沟槽阵列的VSAL。 通过控制聚焦离子束刻蚀时间可以制造出不同深度的凹槽。 实验结果表明，当凹槽加深时，VSAL的阈值电流会增加。 同时，斜率效率降低，并且激光线宽增加。 讨论了这些实验结果背后的物理机制。 实验结果表明存在临界沟槽深度。 凹槽应比该临界值浅，以获得激光振荡和表

  3. 所属分类：其它

    • 发布日期：2021-02-23
    • 文件大小：351232
    • 提供者：weixin_38586942

  1. 软X射线相位型聚焦波带片的研制

  2. 软X射线波带片是软X射线光学中聚焦、色散和成像的重要元件。以激光全息离子束刻蚀技术制作金的振幅型软X射线聚焦波带片,以此为掩模,利用接触式同步辐射光刻和离子束刻蚀技术在聚酰亚胺衬底上,分别制作出了镍和锗的软X射线相位型聚焦波带片。

  3. 所属分类：其它

    • 发布日期：2021-02-11
    • 文件大小：399360
    • 提供者：weixin_38550722

  1. 金膜上亚波长周期性孔阵的模拟与研制

  2. 分析了980 nm波长的光在透过制作在金膜上的亚波长周期性孔阵时的透射增强现象。通过建立中心带缺陷孔的三角晶格的孔阵模型, 并采用三维时域有限差分方法对该模型的透射情况进行模拟分析。结果表明通过优化孔阵周期参数可以对特定波长的光实现一定程度的选择透过性。当孔阵周期为450 nm, 中心缺陷孔径为400 nm, 孔阵中单个孔孔径为150 nm时, 980 nm波长光透过该孔阵时具有明显的透射增强效应, 并且距孔阵表面3 μm的远场光斑尺寸被局限在亚波长尺度(880 nm)。研究了使用聚焦离子束在金

  3. 所属分类：其它

    • 发布日期：2021-02-10
    • 文件大小：1048576
    • 提供者：weixin_38674512

  1. 亚波长环形电磁结构的光学特性研究

  2. 利用聚焦离子束(focused ion beam,FIB)刻蚀方法在120 nm厚的金膜上制备了实验测量样品。再用实验的方法测量了在可见光波段及近红外波段的透射曲线,当样品具有相同的晶格常数以及空气孔直径时,环形空气孔结构,不仅具有六重旋转对称性还具有中心对称性,它的最大透射率大约是正方角晶格空气孔的5倍。亚波长环形空气孔结构透射增强峰的在可见光波段,而正方晶格空气孔的透射增强峰在近红外波段,样品的透射强度和透射增强峰的位置各不相同,证明了结构的旋转对称性对透射曲线的影响。

  3. 所属分类：其它

    • 发布日期：2021-02-10
    • 文件大小：1048576
    • 提供者：weixin_38613548

  1. Raith_GDSII：用于Raith电子束光刻（EBL）和聚焦离子束（FIB）工具的MATLAB工具-源码

  2. Raith_GDSII：用于Raith电子束光刻（EBL）和聚焦离子束（FIB）工具的MATLAB工具

  3. 所属分类：其它

    • 发布日期：2021-02-03
    • 文件大小：2097152
    • 提供者：weixin_42116701
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