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  1. 脉冲激光沉积制备TiO

  2. 采用脉冲激光沉积(PLD)的方法在玻璃衬底上制备了二氧化钛薄膜,研究了基片温度和氧压对薄膜表面形貌、晶体结构和光学性能的影响。结果表明:当基片温度低于300 ℃或高于400 ℃时,二氧化钛薄膜的折射率都随着基片温度的升高而增大;基片温度处于300 ℃~400 ℃之间时,折射率随着基片温度的升高而降低;基片温度为300 ℃时,折射率最大。薄膜的折射率随着氧压的增大而减小。X射线衍射仪(XRD)显示薄膜在基片温度低于300 ℃时为非晶态结构,在300 ℃时出现了锐钛矿结构,当基片温度升高到500 ℃
  3. 所属分类:其它

    • 发布日期:2021-02-08
    • 文件大小:2097152
    • 提供者:weixin_38606404