贺开矿 （杭州士兰集成电路有限公司， 杭州 310018） 摘要：叙述了表面活性剂的性质、分类、分子结构特点，重点介绍了表面活性剂在光刻工艺的涂胶、显影、湿刻工序中的应用。适当加入表面活性剂，在现有设备的条件下可极大地提高光刻质量，对双极电路以及CMOS电路制作都有着重要的现实意义。 关键词：表面活性剂；表面张力；光刻；显影；湿法腐蚀 中图分类号：TN305.7 文献标识码：A 文章编号：1003-353X(2005)03-0024-03 1 引言 在液体内部，分子受到邻近分子间的