（江苏大学电气信息工程学院，江苏 镇江 212013）摘 要：在下一代光刻（NGL）技术中，限散射角电子束光刻（SCALPEL）技术工艺简单、成本较低，因此是集成电路生产厂家首选的光刻方案之一。本文论述了SCALPEL的工作原理、加工工艺和方法、SCALPEL系统等，并对比分析了SCALPEL在NGL研发中的技术优势及其应用要点。 关键词：超大规模集成电路,纳米CMOS器件,电子束光刻,散射,技术优势,应用前景 中图分类号：TN305.7；TN47 文献标识码：A 文章编号：1003-353X(