在含有克尔介质和光学参量放大器(OPA)的光机械系统中，腔中的光学双稳性与纠缠特性会受到这两种介质较大的影响。当调节非线性晶体与腔场的耦合常数时，OPA 晶体的非线性增益对系统的双稳性影响与入射光强度对双稳性的影响是相似的，然而克尔介质的三阶非线性系数对系统双稳性却有着明显不同的影响。对系统纠缠特性的研究结果表明：OPA 晶体的非线性增益系数对腔场与振动镜之间的纠缠有着增强的作用，而克尔介质的三阶非线性系数对纠缠却有着减弱的效果。

在含有克尔介质和光学参量放大器(OPA)的光机械系统中,腔中的光学双稳性与纠缠特性会受到这两种介质较大的影响。当调节非线性晶体与腔场的耦合常数时,OPA晶体的非线性增益对系统的双稳性影响与入射光强度对双稳性的影响是相似的,然而克尔介质的三阶非线性系数对系统双稳性却有着明显不同的影响。对系统纠缠特性的研究结果表明:OPA晶体的非线性增益系数对腔场与振动镜之间的纠缠有着增强的作用,而克尔介质的三阶非线性系数对纠缠却有着减弱的效果。