为了精确控制曝光剂量，需要精确测量光刻系统的光学透射率。采用了双光路对比的方法进行透射率测量，有效地消除了准分子激光器能量波动带来的透射率测量误差。并通过加入起偏器，消除了准分子激光器偏振态不稳定带来的误差。搭建了深紫外光学透射率测量装置，对1片可计算透射率的光学样品进行透射率测量，其测量结果与透射率理论计算结果基本一致。测量结果显示，该装置的测量重复性可达到0.3%。通过分光光度计对该光学样品进行测量，通过结果对比，该装置的测量结果与分光光度计的测量结果相差0.28%。另外，该装置应用灵活，可