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搜索资源 - 80nm应用中的高数位孔径,双载具93nmTWINSCAN扫描分步投影机
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80nm应用中的高数位孔径,双载具93nm TWINSCAN 扫描分步投影机
程天风(ASML 阿斯麦光刻设备有限公司)摘要:针对次100nm的生产,ASML 研发了一个新光刻系统,其中克服了许多底k1解晰度的挑战。其中包含0.85NA双载具193nm TWINSCAN的设计、性能与一些初步的量测数据。80nm的生产必须要有多方面的量测与控制来达到高准确度的线宽(CD)与对准(Overlay)的要求水平。本机台拥有高成熟度的双载具平台,稳定的系统动态质(MSD),一惯性的光量递输等功能,幷包含了一个内建侦测回送系统来自动调控投影镜的像差(aberrations),来达到最
所属分类:
其它
发布日期:2020-12-09
文件大小:108544
提供者:
weixin_38664989