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Fabrication and Transport Properties of Mn doped Cu2O Thin Films
锰掺杂氧化亚铜薄膜的制备和输运性质研究，范崇飞，张亚萍，我们用射频磁控溅射在热氧化硅片上制备了含6%锰的氧化亚铜单相薄膜,X射线衍射显示薄膜呈现高（200）的取向，SQUID测量显示薄膜在25K以
所属分类：
其它
发布日期：2020-02-06
文件大小：405504
提供者：
weixin_38618315
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